[发明专利]负型感光性有机‑无机混合绝缘膜组合物

说明书

技术领域

本发明涉及负型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物，更详细而言，涉及如下负型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物：可通过将以往的SiNx钝化(Passivation)/丙烯酸系感光性有机绝缘膜的双层结构形成为单层(layer)来实现工序简化和生产费用降低，不仅灵敏度、分辨率、工艺窗口(Process margin)、透明性、耐热变色性、平坦度等性能优异，尤其能够实现低电容率绝缘膜，从而能够降低耗电，并且能够消除残影、串扰(Crosstalk)和阈值电压的位移(Shift)现象，此外，由于因优异的耐热性而能够实现低脱气(Outgassing)，因此能够确保优异的面板(Panel)可靠性，由此，在多种多样的显示器(Display)中不仅可有效地用于钝化绝缘膜、栅极(Gate)绝缘膜，还可用于平坦化膜等。

背景技术

近年来，在TFT型液晶显示元件或集成电路元件中，为了使配置于层间的配线之间绝缘且提高开口率，使用由SiNx钝化(Passivation)和丙烯酸系感光性有机绝缘膜构成的双层膜。在SiNx膜的情况下，其通过CVD加工而形成，在丙烯酸系感光性有机绝缘膜的情况下，其利用光学(Photo)处理来形成，从而由加工时间导致的生产能力问题严重。

对于以往的绝缘膜，当单独形成由上述用CVD形成的SiNx膜时，存在显示器的开口率降低的问题，并且随着显示器(Display)的大型化，生产线中蒸镀装备所占的面积非常大，从而在设备大型化时导致较大的负担。此外，当单独形成由通过以往光学加工的丙烯酸系感光性有机绝缘膜时，会因残影、串扰(Crosstalk)和阈值电压值的位移(Shift)现象等而使显示器产生电性不良。已知其原因在于，有机物质所特有的缺点即膜上的缺陷而导致的漏电(Current Leakage)。

因此，最近对于以有机-无机混合技术为基础，仅以光学加工就可形成的单层绝缘膜的需求变大，并且正积极进行着对此的技术开发。

发明内容

技术课题

为了解决如上所述的以往技术的问题，本发明提供一种负型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物、使用该组合物的显示器元件的图案形成方法和将负型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物的固化物用于绝缘膜的显示器元件，所述负型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物可通过将以往的SiNx钝化/丙烯酸系感光性有机绝缘膜的双层结构形成为单层来实现工序简化和生产费用降低，不仅灵敏度、分辨率、工艺窗口、透明性、耐热变色性、平坦度等性能优异，尤其可实现低电容率绝缘膜，从而能够降低耗电，并且能够消除残影、串扰和阈值电压的位移现象，此外，由于因优异的耐热性而能够实现低脱气，因此能够确保优异的面板可靠性，由此，在多种多样的显示器中不仅可有效地用于钝化绝缘膜、栅极绝缘膜，还可用于平坦化膜等。

解决课题的方法

为了实现上述目的，本发明提供一种负型感光性有机-无机混合绝缘膜组合物，其特征在于，包含：

a)硅氧烷共聚物，其聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为1,000至20,000，是将i)下述化学式1所表示的包含1-3个苯基或碳原子数1-4的烷基的反应性硅烷单体、ii)下述化学式2所表示的4官能反应性硅烷单体、和iii)下述化学式3所表示的包含丙烯酰基或乙烯基的反应性硅烷单体在催化剂下进行水解和缩聚而得的；

b)光引发剂；和

c)具有乙烯性不饱和键的多官能性单体或低聚物：

[化学式1]

(R₁)_nSi(R₂)_4-n

在上述式中，R₁各自独立地为苯基或碳原子数1-4的烷基，R₂各自独立地为碳原子数1-4的烷氧基、苯氧基或乙酰氧基，n为1-3的整数；

[化学式2]

Si(R₃)₄

在上述式中，R₃各自独立地为碳原子数1-4的烷氧基、苯氧基或乙酰氧基；

[化学式3]

(R₄)_nSi[(R₅)(R₆)]_4-n

在上述式中，R₄各自独立地为碳原子数1-4的烷氧基、苯氧基或乙酰氧基，R₅各自独立地为丙烯酰基或乙烯基，R₆各自独立地为碳原子数1-4的烷基，n为1-3的整数。