[发明专利]低能量X‑射线的生成装置

权利要求书

1.一种用于生成软X射线的用于对物品进行消毒的X射线源，该X射线源包括：

阴极，其具有由支撑结构支撑的电子发射结构，该电子发射结构至少部分地对支撑结构界定的区域内的X射线是透明的；

阳极，其具有与阴极的电子发射结构平行的X射线发射表面；

电绝缘隔板，其配置在阳极与阴极之间；

其中阴极的电子发射结构和阳极的X射线发射表面被配置为，在使用中，电子发射结构可操作性地向阳极轰击电子，使得X射线从X射线发射表面发射出并穿过阴极；

其中绝缘隔板被配置为位于阳极与阴极的支撑结构之间，并突出到支撑结构之外、跨越部分阳极并且进入到所述区域中；

其中所述X射线源还包括X射线透明窗口，其位于与阳极相对的阴极侧面上，该窗口界定了位于该窗口与阳极之间的腔室；以及

其中所述腔室包含亚大气压的气体。

2.如权利要求1所述的X射线源，其中绝缘隔板突出支撑结构之外、进入到所述区域中的距离是15mm。

3.如权利要求1或2所述的X射线源，其中未被绝缘隔板覆盖的X射线发射表面的宽度的范围是3cm至10cm。

4.如权利要求1所述的X射线源，其中绝缘隔板的厚度是2mm。

5.如权利要求1所述的X射线源，其中绝缘隔板是由陶瓷材料制成的。

6.如权利要求5所述的X射线源，其中绝缘隔板是由氧化铝制成的。

7.如权利要求1所述的X射线源，其中阴极的电子发射结构具有栅格或网孔结构。

8.如权利要求7所述的X射线源，其中栅格或网孔结构的几何透明度是70％至80％。

9.如权利要求1所述的X射线源，还包括与腔室连通的气体供应装置。

10.如权利要求9所述的X射线源，其中所述气体是惰性气体。

11.如权利要求10所述的X射线源，其中所述惰性气体是氦气。

12.如权利要求9所述的X射线源，其中所述气体是氮气。

13.如权利要求9所述的X射线源，其中所述气体是空气。

14.如权利要求1所述的X射线源，还包括位于气体供应装置与腔室之间的分子筛。

15.如权利要求1所述的X射线源，还包括与腔室连通的真空汞。

16.如权利要求1所述的X射线源，其中所述窗口包括KaptonTM。

17.如权利要求1所述的X射线源，其中所述窗口由导电材料形成。

18.如权利要求1所述的X射线源，其中所述窗口还包括由导电材料形成的涂层。

19.如权利要求17或18所述的X射线源，其中所述窗口与阴极的电子发射结构电连接。

20.如权利要求1所述的X射线源，其中所述阳极是由金属块形成的。

21.如权利要求20所述的X射线源，其中所述金属块的厚度是至少几毫米。

22.如权利要求1所述的X射线源，其中所述阳极还包括冷却装置。

23.如权利要求22所述的X射线源，其中冷却装置包括与阳极热连通的一个或多个冷却管。

24.如权利要求1所述的X射线源，其中所述阴极的电子发射结构至少部分是由铜形成的。

25.如权利要求1所述的X射线源，其中所述阳极至少部分是由铜形成的。

26.如权利要求1所述的X射线源，还包括与阳极电连接的电源线缆。

27.如权利要求26所述的X射线源，还包括绝缘材料，该绝缘材料被配置为将电源线缆的波阻抗与所述阳极的波阻抗进行匹配。

28.如权利要求1所述的X射线源，其中阴极的电子发射结构处于地电位。

29.如权利要求1所述的X射线源，其中所述阴极的电子发射结构与支撑结构电连接。

30.如权利要求1所述的X射线源，其中所述支撑结构与X射线源的外壳结构连接，或者与外壳结构一体形成。