[实用新型]一种瓷砖抛光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种瓷砖加工机械，尤其涉及一种瓷砖抛光装置。

背景技术

在瓷砖制造的过程中，需要通过瓷砖抛光机对瓷砖进行抛光，抛光后的瓷砖粗糙度降低，表面变得光亮平整，使瓷砖美观，且增加瓷砖耐磨和耐压性。现有的瓷砖抛光机由电机带动多个磨盘转动，瓷砖在传送装置的输送下经过这些磨盘时，由磨盘进对瓷砖表面进行抛光。现有的抛光机容易产生粉尘飞扬，影响环境，且磨盘的高度都是一致的，一次性把瓷砖抛光到位，由于未抛光前瓷砖的厚度不一，较厚的瓷砖直接进入磨盘容易损坯瓷砖。

发明内容

针对现有技术中存在的不足，本实用新型的目的是在于提供一种线条机，其结构简单，效率高，抛光效果好，干净卫生，对环境影响小。

为实现上述目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种瓷砖抛光装置，包括机架，水平设于机架上的输送带，由顶板和两侧板组成的抛光室，所述抛光室的两侧板设于所述机架上，所述抛光室内的传送装置为水平固定于机架两侧边上的滚动轴，所述抛光室内顶板上设有转轴，设于转轴底部的磨盘，所述抛光室内顶部设有储水仓，所述储水仓一侧设有进水口，所述储水仓底部设有喷嘴，所述抛光室内还设有通过转轴连接的抛光修正盘，所述抛光修正盘的底面设有均匀分布的金刚石丸片。

进一步的，所述抛光室对应的机架位置的底部设有收集箱。

进一步的，所述喷嘴与所述转轴相间设置于抛光室内。

进一步的，所述滚动轴之间设有间隙，所述间隙的距离小于瓷砖的厚度。

进一步的，所述机架的尾部设有平滑度检测器。

进一步的，所述抛光修正盘的位置位于所有所述磨盘之后。

进一步的，所述金刚石丸片和所述抛光修正盘之间采用非加热胶粘接。

进一步的，所述磨盘为高弹性高强度软磨块。

综上所述，本实用新型的有益效果是：一种瓷砖抛光装置，其在抛光室顶部设有储水仓，并在内部设有喷嘴，并且与转轴相间设置，在对瓷砖进行抛光时，将喷嘴打开，将飘起的粉尘冲落，并在抛光室对应的机架上的传送位置设有间隙的滚动轴传送，且在滚动轴的底部设有收集箱，如此，便可将冲落的粉尘和碎石从滚动轴彼此之间的间隙中流入收集箱内，并且，在磨盘最后的位置设有抛光修正盘，抛光修正盘对已经进行抛光的瓷砖进行修正，使瓷砖抛光效果更好，其结构简单，效率高，抛光效果好，干净卫生，对环境影响小。

附图说明

图1是本实用新型实施例的结构示意图。

图2是本实用新型实施例中抛光修正盘的示意图。

图中，1、机架，2、输送带，3、抛光室，4、储水仓，5、进水口，6、滚动轴，7、转轴，8、磨盘，9、抛光修正盘，10、金刚石丸片，11、平滑度检测器，12、喷嘴，13、收集箱，14、瓷砖，15、间隙。

具体实施方式

下面将结合附图以及具体实施方式对本实用新型作进一步的说明：

如图1和图2所示，一种瓷砖抛光装置，包括机架1，水平设于机架1上的输送带2，由顶板和两侧板组成的抛光室3，所述抛光室3的两侧板设于所述机架1上，所述抛光室3内的传送装置为水平固定于机架1两侧边上的滚动轴6，所述抛光室3内顶板上设有转轴7，设于转轴7底部的磨盘8，所述抛光室3内顶部设有储水仓4，所述储水仓4一侧设有进水口5，所述储水仓4底部设有喷嘴12，所述抛光室3内还设有通过转轴7连接的抛光修正盘9，所述抛光修正盘9的底面设有均匀分布的金刚石丸片10。

所述抛光室3对应的机架1位置的底部设有收集箱13。所述喷嘴12与所述转轴7相间设置于抛光室3内。所述滚动轴6之间设有间隙15，所述间隙15的距离小于瓷砖14的厚度。所述机架1的尾部设有平滑度检测器11。所述抛光修正盘9的位置位于所有所述磨盘8之后。所述金刚石丸片10和所述抛光修正盘9之间采用非加热胶粘接。所述磨盘8为高弹性高强度软磨块。