[实用新型]一种隔离型4-20mA发生器

说明书

技术领域

本实用新型涉及模拟DA改进，特别是一种隔离型4-20mA发生器。

背景技术

一般的模拟DA的方式，稳定性差，线性度不理想，分辨率低，不适合在一般的工控场合使用。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决上述问题，设计了一种隔离型4-20mA发生器。

实现上述目的本实用新型的技术方案为，一种隔离型4-20mA发生器，包括PMW模块1，还包括电流驱动单元，所述电流驱动单元通过光耦2与PMW模块1相连接，所述电流驱动单元是由波形整形模块3、RC二阶滤波模块4和恒流驱动模块5三部分构成，所述波形整形模块3、RC二阶滤波模块4和恒流驱动模块5依次电气连接，所述波形整形模块3与光耦2相连接。

所述波形整形模块3与光耦2相连接。

所述PMW模块1上设有一号电源接口6，所述一号电源接口6接入的直流额定电压为5V。

所述电流驱动单元上设有二号电源接口7，所述二号电源接口7接入的直流额定电压为24V。

所述恒流驱动模块输出电流为4-20mA。

所述恒流驱动模块输入电流的分辨率为1μA。

利用本实用新型的技术方案制作的一种隔离型4-20mA发生器，这种PWM模拟DA的方式，稳定性，线性度，分辨率很好，在一般的工控场合很适用。

附图说明

图1是本实用新型所述一种隔离型4-20mA发生器的结构示意图；

图2是本实用新型所述一种隔离型4-20mA发生器的电气原理图；图中，1、PMW模块；2、光耦；3、波形整形模块；4、RC二阶滤波模块；5、恒流驱动模块；6、一号电源接口；7、二号电源接口。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进行具体描述，如图1和图2所示，一种隔离型4-20mA发生器，包括PMW模块1，还包括电流驱动单元，所述电流驱动单元通过光耦2与PMW模块1相连接，所述电流驱动单元是由波形整形模块3、RC二阶滤波模块4和恒流驱动模块5三部分构成，所述波形整形模块3、RC二阶滤波模块4和恒流驱动模块5依次电气连接，所述波形整形模块3与光耦2相连接；所述波形整形模块3与光耦2相连接；所述PMW模块1上设有一号电源接口6，所述一号电源接口6接入的直流额定电压为5V；所述电流驱动单元上设有二号电源接口7，所述二号电源接口7接入的直流额定电压为24V；所述恒流驱动模块输出电流为4-20mA；所述恒流驱动模块输入电流的分辨率为1μA。

本技术方案的特点为，一种隔离型4-20mA发生器，本技术基于PWM技术，通过光耦实现隔离后对PWM波形进行反相器整形，再通过两阶RC低通后，变成直流电平信号，达到DA输出的目的，在通过运放、晶闸管驱动一个精密取样电阻，构成恒流驱动的目的。

在本技术方案中，4-20mA的分辨率由PWM的重复频率和PWM的位数有关系，本方案使用PWM频率为320HZ，PWM位数为16位，使得电流输出的分辨率约为1uA。

上述技术方案仅体现了本实用新型技术方案的优选技术方案，本技术领域的技术人员对其中某些部分所可能做出的一些变动均体现了本实用新型的原理，属于本实用新型的保护范围之内。