[实用新型]一种匀光结构有效

专利信息
申请号: 201420685112.0 申请日: 2014-11-14
公开(公告)号: CN204256203U 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 胡飞;杨佳翼;谢颂婷 申请(专利权)人: 深圳市绎立锐光科技开发有限公司
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;G02B1/11
代理公司: 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 代理人: 王仲凯
地址: 518055 广东省深圳市南山区西丽*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 结构
【权利要求书】:

1.一种匀光结构,其特征在于,包括:

第一基板;

位于所述第一基板表面的第一图案结构,所述第一图案结构包括多个微结构,用于对照射到其表面的入射光束进行匀光;

位于所述第一图案结构表面的第一介质层,所述第一介质层完全覆盖所述第一图案结构,所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面为平面;

所述第一介质层背离所述第一图案结构的一面设有第一增透膜。

2.如权利要求1所述的匀光结构,其特征在于,还包括:所述第一基板背离所述第一图案结构的一面设有第二增透膜。

3.如权利要求2所述的匀光结构,其特征在于,所述第一介质层为胶水介质层,所述第一介质层和第一增透膜之间设有第二基板。

4.如权利要求3所述的匀光结构,其特征在于,所述第一图案结构为胶水图案层。

5.如权利要求1所述的匀光结构,其特征在于,所述第一基板背离所述第一图案结构的一面设有第二图案结构,所述第二图案结构包括多个微结构;

所述第二图案结构表面设有第二介质层,所述第二介质层背离所述第二图案结构的一面为平面;

所述第二介质层背离所述第二图案结构的一面设有第二增透膜。

6.如权利要求5所述的匀光结构,其特征在于,所述第二介质层为胶水介质层,所述第二介质层和第二增透膜之间设有第三基板。

7.如权利要求4所述的匀光结构,其特征在于,还包括:

第三图案结构,所述第三图案结构包括多个微结构,其中,第三图案结构与第一介质层的胶水介质层接触的一面为微结构面,第三图案结构背离第一介质层的胶水介质层的一面为平面。

8.如权利要求7所述的匀光结构,其特征在于,所述第三图案结构为胶水图案层。

9.如权利要求3所述的匀光结构,其特征在于,所述第一基板和第二基板为PC板,所述第一图案结构为散射粉层。

10.如权利要求1-9任一项所述的匀光结构,其特征在于,所述第一介质层为硅胶介质层、UV胶介质层或光学环氧胶介质层。

11.如权利要求4或8所述的匀光结构,其特征在于,所述胶水图案层为硅胶图案层、UV胶图案层或光学环氧胶图案层。

12.如权利要求11所述的匀光结构,其特征在于,胶水图案层的厚度不大于100μm。

13.如权利要求3所述的匀光结构,其特征在于,所述第一基板和第二基板为石英玻璃基板、亚克力板、蓝宝石玻璃基板或普通玻璃基板。

14.如权利要求6所述的匀光结构,其特征在于,所述第三基板为石英玻璃基板、亚克力板、蓝宝石玻璃基板或普通玻璃基板。

15.如权利要求4所述的匀光结构,其特征在于,所述胶水图案层的表面为多个弧形面构成的曲面,或多个锯齿构成的锯齿面,或多个台阶构成的阶梯面。

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