[实用新型]一种镀铬槽除杂装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种电镀装置，特别涉及一种镀铬槽除杂装置。

背景技术

    装饰型电镀Cu-Ni-Cr体系中，无论是塑胶电镀还是金属电镀，其镀层都是通过镀Cu，再镀Ni，最后镀Cr，由于产品不断进入并且有少数产品掉落在镀铬槽，而镀铬槽液具有较强氧化性，势必会引起镀铬槽中的杂质离子（如Cu²⁺、Ni²⁺、Cl^-等）的含量均增高，从而严重影响镀Cr液的覆盖能力，并极易引起产品烧焦或发黄，甚者，槽液则要作报废处理，提高成本。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够很好的将镀铬槽内的金属杂质离子去除的镀铬槽除杂装置。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案为：一种镀铬槽除杂装置，其创新点在于：包括镀铬槽、陶瓷桶、镀镍板及镀铬阳极板；

所述镀铬槽的上端具有两个并列放置的支撑杆，支撑杆的两端分别支撑在镀铬槽的两端，所述陶瓷桶通过支撑杆悬挂于镀铬槽内，在陶瓷桶的上端的两侧均具有向外延伸的支撑板；

所述陶瓷桶内插有镀镍板，在陶瓷桶与镀铬槽之间设置有镀铬阳极板；

所述陶瓷桶的四周具有若干与陶瓷桶内相连通的毛孔，所述毛孔的口径在0.5μm-2μm之间。

本实用新型的优点在于：通过在镀铬槽内，增设一陶瓷桶，并且陶瓷桶上具有若干只容许小直径金属离子通过的毛孔，另在陶瓷桶中通过直流电进行电解，金属杂质离子通过陶瓷桶孔隙进入陶瓷桶内，部分沉积在镀镍板上，数小时后，桶内金属杂质含量会越来越高，将其换掉，清洗镀镍板，再重新电解，如此反复，镀铬槽液中金属杂质会越来越少，镀液纯度会越来越高，性能会越来越好，从而达到理想的电镀效果。

附图说明

图1为本实用新型的镀铬槽除杂装置的示意图。

具体实施方式

如图1所示的示意图可知，本实用新型的镀铬槽除杂装置包括镀铬槽4、陶瓷桶3、镀镍板2及镀铬阳极板1。

在镀铬槽4的上端具有两个并列放置的支撑杆，支撑杆的两端分别支撑在镀铬槽4的两端，陶瓷桶3通过支撑杆悬挂于镀铬槽4内，在陶瓷桶3的上端的两侧均具有向外延伸的支撑板。

在陶瓷桶3内插有镀镍板2，在陶瓷桶3与镀铬槽4之间设置有镀铬阳极板1。

在陶瓷桶3的四周具有若干与陶瓷桶3内相连通的毛孔，毛孔的口径在0.5μm-2μm之间。

在对镀铬槽4进行除杂时，利用陶瓷桶3的毛孔的孔隙只容许小直径金属离子，如Cu²⁺、Ni²⁺、Cl^-等均可以通过，大直径离子如络酸根（CrO₄^2-）、重络酸根（Cr₂O₇^2-）、多络酸根（Cr₃O₁₀^2-）则无法通过，另在陶瓷桶3中注入10%H₂SO₄溶液，内插镀镍板2作阴极，同时用于镀铬槽4内电解用的镀铬阳极板1作为阳极，通过直流电进行电解，金属杂质离子通过陶瓷桶3孔隙进入陶瓷桶3内，部分沉积在镀镍板2上，数小时后，桶内金属杂质含量会越来越高，将其换掉，清洗镀镍板2，再重新电解，如此反复，镀铬槽液4中金属杂质会越来越少，镀液纯度会越来越高，性能会越来越好，从而达到理想的电镀效果。

    以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。