[实用新型]反应器滤网清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型属于化工领域，涉及一种反应器滤网清洗装置。

背景技术

MDI,由异氰酸酯与多元醇及其配合助剂合成的聚氨酯材料，以其优异的性能、繁多的品种、广阔的用途，在众多的台成材料中独树一帜，成为当今发展速度最快的材料之一。

在其加工合成的过程中，需要用滤网进行过滤，那么时间久了，滤网上就会沉积很多的半成品化学原料，那么如果不及时清洗，那么滤网就会被堵住，这样，就失去了过滤的作用。

在清洗滤网时，需要经过多次清洗（一般是三次），主要是放置若干清洗罐，清洗罐内装有清洗液，该种清洗液也是一种化学合成品，其具有很强的挥发性，那么在清洗时，就会产生许多的废气，对周围的环境造成污染。

目前，大部分的工厂都是直接在清洗罐上方设置了一个排气罩，排气罩上连接有排气管，排气管另一端与排气扇连接。由于清洗罐的体积较大，并且清洗罐之间也需要有一定的间距，因此，大都将排气罩的体积设置的非常大，以能够完全的罩在所有的清洗罐的上方。但是，这样一来，就增加了制造排气罩所需要的成本，而且，排气的效果也不太理想。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种反应器滤网清洗装置，其能够在控制制造成本的前提下有效的排放清洗过程中产生的废气。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：

一种反应器滤网清洗装置，包括支架以及排气罩，所述支架包括四根支撑脚以及固定在所述支撑脚上的两根主梁，所述主梁相互平行并且在两根主梁相对的一侧各设有第一滑槽；所述排气罩为棱台形，其上端设有排气管，下端的两侧各设有至少两个与所述第一滑槽配合的滚轮，所述排气罩下端还没有滑轨，所述滑轨上设有第二滑槽，所述第二滑槽内设有若干滑块，所述滑块上均设有钩环，所述钩环上挂有遮挡帘；所述主梁下方还设有三个清洗罐。

通过采用上述技术方案，排气罩能够通过滚轮在第一滑槽内滚动来实现在支架上回来移动，另外，还设置了一个遮挡帘，该遮挡帘是通过钩环固定在滑块上的，而同时滑块能够在滑轨上滑动。当需要清洗滤网时，先将排气罩移动到需要用到的清洗罐的正上方，然后打开该清洗罐，再将滤网放到该清洗罐里面清洗；另外，由于设置了上述的遮挡帘，那么在清洗的同时拉动遮挡帘来将清洗罐围在里面，这样的话，清洗时产生的废气就能够限制在遮挡帘内，然后被排气罩排走；完成第一次清洗后，拨开遮挡帘，然后再将过滤网从清洗罐内拿出来，盖好清洗罐的盖子，然后将排气罩移动到下一个清洗罐的正上方，重复上一个步骤，这样一来，就能够完成对过滤网的清洗。

进一步的，所述第一滑槽为凹字形，其受力于所述滚轮的一侧沿所述滚轮的滚动方向设有通槽，所述通槽的截面为梯形，所述通槽较窄的一侧朝向地面并且宽度小于所述滚轮的宽度。

进一步的，所述排气罩上还设有拉杆，所述拉杆一端固定在所述排气罩上，另一端设有拉手。

进一步的，所述拉手与所述拉杆铰接。

与现有技术相比，本实用新型通过上述方案，将排气罩设置成可以滑动，那么这样一来，在清洗滤时，只需要将排气罩移动到相应的清洗罐的正上方，就能够实现将清洗时产生的废气排走。那么这样，不不仅能够实现废气的有效排放，还能够减少排气罩的体积从而降低了成本。

附图说明

图1为本实用新型实施例的总体示意图；

图2为本实用新型实施例中支架的示意图；

图3为图2中A部的放大图；

图4为本实用新型实施例中第一滑槽的剖视图；

图5为本实用新型实施例排气罩的示意图；

图6为图5中B部的放大图。

附图标注：1、支架，11、主梁，111、第一滑槽，1111、通槽，12、支撑脚，2、排气罩，21、排气管，22、滚轮，23、滑轨，231、第二滑槽，2311、滑块，23111、钩环，24、拉杆，25、拉手，3、遮挡帘，4、清洗罐。

具体实施方式

参照图1至图6对本实用新型实施例做进一步说明。