[实用新型]镭射膜有效
| 申请号： | 201420419552.1 | 申请日： | 2014-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN204020114U | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 龚万雄 | 申请（专利权）人： | 深圳市天意通防伪包装材料有限公司 |
| 主分类号： | B32B15/04 | 分类号： | B32B15/04;B32B15/20;B32B9/04;B32B27/06;B32B27/36;B32B7/12 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 胡海国 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镭射 | ||
【权利要求书】：
1.一种镭射膜，其特征在于，包括透明保护层、图文层、全息层、镀铝层、粘合剂层、支撑层以及用于削弱全息层光线的削减层，所述支撑层上朝远离所述支撑层上表面的方向依次设置所述粘合剂层、所述镀铝层、所述全息层、所述图文层以及所述透明保护层，所述削减层设置在所述镀铝层与所述粘合剂层之间和/或所述镀铝层与所述全息层之间。
2.如权利要求1所述的镭射膜，其特征在于，所述透明保护层为二氧化硅层或硫化锌层。
3.如权利要求1所述的镭射膜，其特征在于，所述支撑层为塑料层、有机玻璃层或铝层。
4.如权利要求1所述的镭射膜，其特征在于，所述削减层为PET层。
5.如权利要求1所述的镭射膜，其特征在于，所述支撑层的厚度在0.5mm-0.8mm之间。
6.如权利要求1所述的镭射膜，其特征在于，所述削减层的厚度在0.25mm-0.45mm之间。
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