[实用新型]一种新型的镀铝瓦楞纸板有效
申请号: | 201420394650.4 | 申请日: | 2014-07-15 |
公开(公告)号: | CN203937275U | 公开(公告)日: | 2014-11-12 |
发明(设计)人: | 周颐 | 申请(专利权)人: | 周颐 |
主分类号: | B32B29/08 | 分类号: | B32B29/08;B32B15/04;B32B9/04;C23C14/35;C23C14/20;C23C14/10 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 镀铝 瓦楞纸板 | ||
技术领域:
本实用新型涉及家具材料技术领域,具体涉及一种新型的镀铝瓦楞纸板。
背景技术:
目前,我国对磁控溅射镀膜技术进行积极探索,尤其在包装材料中应用较为深入。但对于镀铝膜技术方法和瓦楞纸板生产技术相结合,以及镀铝瓦楞纸板制备的工艺方法无先例可循;对镀铝瓦楞纸板作为新型家具材料,进行概念家具设计与研发,即新型材料与概念家具相结合的生产技术工艺,目前无经验公式、无经验数值,如何开发造型结构美观时尚、实用方便、基本功能应用合理的概念家具,只能通过实验研究并借鉴纸板家具造型结构的经验才可完成;针对镀铝瓦楞纸板如何进行概念家具设计,按照概念家具要求实现造型、结构的结合;如何开发具有实用性和表现力的概念家具,解决镀铝瓦楞纸板制备的技术工艺和概念家具应用在生产工艺的可行性问题是目前研究存在的主要问题。
国外磁控溅射镀铝技术主要表现在包装领域,主要集中于SiOx薄膜和氧化铝薄膜等方面。我国上世纪80年代初,磁控溅射技术、和热蒸发技术和弧镀技术都有很大发展,真空磁控溅射技术的发展也使包装薄膜的功能和高技术含量不断增加。溅射是高频电场或直流电源使惰性气体电离产生辉光放电等离子体,溅射离子通过气体放电使正离子和电子高速轰击靶材,将靶材表面分子或原子溅射出来,沉积在基材表面形成薄膜的过程为磁控溅射镀膜物理技术方法。
实用新型内容:
本实用新型的目的是提供一种新型的镀铝瓦楞纸板,它解决镀铝瓦楞纸板制备的技术工艺的问题,通过研究直流磁控溅射镀铝技术,采用直流反应磁控溅射制备纸基镀铝膜,用来制备镀铝瓦楞纸板并作为原材料制备镀铝瓦楞纸板家具。
为了解决背景技术所存在的问题,本实用新型是采用以下技术方案:它包含沉积防护层SiOx(1)、第一镀铝膜(2)、瓦楞纸板面纸(3)、第一瓦楞纸愣纸(4)、瓦楞纸中纸(5)、第二瓦楞纸愣纸(6)、瓦楞纸里纸(7)、第二镀铝膜(8),所述的第二镀铝膜(8)的通过磁控溅射设置有瓦楞纸里纸(7)下表面,瓦楞纸里纸(7)的上端设置有第二瓦楞纸愣纸(6),第二瓦楞纸愣纸(6)的上端设置有瓦楞纸中纸(5),瓦楞纸中纸(5)的上端设置有第一瓦楞纸愣纸(4),第一瓦楞纸愣纸(4)的上端设置有瓦楞纸板面纸(3),瓦楞纸板面纸(3)的上端磁控溅射沉积有有第一镀铝膜(2),第一镀铝膜(2)的上端通过磁控溅射有沉积防护层SiOx(1)。
溅射沉积铝膜系统:磁控溅射技术以纯铝为靶材,溅射时通过电离Ar气并引入正交电磁场,用Ar离子轰击铝靶,溅射出的铝离子沉积到基材上从而制备高阻隔纳米新型铝膜材料,并为制备镀铝瓦楞纸板所需要的镀铝膜提供前提条件。
铝膜制备工艺:从工作气压、溅射电流、镀膜时间,Ar气流量等的重要工艺参数对铝膜影响,以及物理性能的变化及其原因,通过对本底真空度工艺参数、透氧、透湿指标研究,提高铝膜防潮等性能,通过正交试验筛选关键工艺参数以利于制备最优的铝膜。
镀铝瓦楞纸板的制备过程:优化选择瓦楞纸板生产工艺实现镀铝瓦楞纸板制备。采用高强度特种纸为基材制备铝膜面纸,试验分析镀铝瓦楞纸板面纸材料,研究镀铝瓦楞纸材料结构,制备设备、制备工艺及流程对镀铝瓦楞纸板的物理技术性能进行试验测度实现镀铝瓦楞纸板的制备。
本实用新型具有以下有益效果:它解决镀铝瓦楞纸板制备的技术工艺的问题,通过研究直流磁控溅射镀铝技术,采用直流反应磁控溅射制备纸基镀铝膜,用来制备镀铝瓦楞纸板并作为原材料制备镀铝瓦楞纸板家具。
附图说明:
图1是本实用新型结构示意图。
具体实施方式:
参看图1,本具体实施方式采用以下技术方案:它包含沉积防护层SiOx(1)、第一镀铝膜(2)、瓦楞纸板面纸(3)、第一瓦楞纸愣纸(4)、瓦楞纸中纸(5)、第二瓦楞纸愣纸(6)、瓦楞纸里纸(7)、第二镀铝膜(8),所述的第二镀铝膜(8)的通过磁控溅射设置有瓦楞纸里纸(7)下表面,瓦楞纸里纸(7)的上端设置有第二瓦楞纸愣纸(6),第二瓦楞纸愣纸(6)的上端设置有瓦楞纸中纸(5),瓦楞纸中纸(5)的上端设置有第一瓦楞纸愣纸(4),第一瓦楞纸愣纸(4)的上端设置有瓦楞纸板面纸(3),瓦楞纸板面纸(3)的上端磁控溅射沉积有有第一镀铝膜(2),第一镀铝膜(2)的上端通过磁控溅射有沉积防护层SiOx(1)。
1)铝膜表面的SiOx处理
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