[实用新型]高精度除硅设备有效
申请号: | 201420389224.1 | 申请日: | 2014-07-14 |
公开(公告)号: | CN203946907U | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
发明(设计)人: | 龙建华;黄秋琴;朱燕;徐伟华 | 申请(专利权)人: | 江苏三鼎水处理设备有限公司 |
主分类号: | C02F1/04 | 分类号: | C02F1/04;C02F1/60 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 王倩 |
地址: | 213331 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高精度 设备 | ||
1.一种高精度除硅设备,其特征在于:包括机架、以及设置在机架内的真空蒸馏罐、导流冷凝机构、冷却罐机构和硅油回收装置,其中:
所述真空蒸馏罐的顶部连接所述导流冷凝机构、并在底部设置有排水阀;
所述导流冷凝机构包括硅油导流管以及设置在硅油导流管外侧的第一冷却装置,所述硅油导流管的进口端和出口端分别与所述真空蒸馏罐和冷却罐机构相通;
所述冷却罐机构包括硅油冷却罐以及设置在硅油冷却罐外侧的第二冷却装置;
所述硅油回收装置包括与所述冷却罐机构相通的硅油箱。
2.根据权利要求1所述的高精度除硅设备,其特征在于:所述真空蒸馏罐的内部设置有温度传感器和气压传感器,所述真空蒸馏罐上还设置有加热装置和空压机,所述温度传感器与所述加热装置电连接、并用于控制所述加热装置的启闭,所述气压传感器与所述空压机电连接、并用于控制所述空压机的启闭,所述温度传感器的温度监控范围为95-110℃,所述气压传感器的气压监控范围为-0.08~-0.06mPa。
3.根据权利要求2所述的高精度除硅设备,其特征在于:所述温度传感器的温度监控范围为104±0.1℃,所述气压传感器的气压监控范围为-0.08mPa。
4.根据权利要求2所述的高精度除硅设备,其特征在于:所述加热装置包括设置在真空蒸馏罐罐壁上的热油加热管、通过热油循环管与所述热油加热管相连的热油加热箱、以及设置在所述热油加热箱内的电加热丝,所述热油循环管上设置有热油控制阀和热油泵。
5.根据权利要求1所述的高精度除硅设备,其特征在于:所述第一冷却装置包括缠绕在硅油导流管外侧的第一冷凝管、以及与第一冷凝管相通的第一冷却水循环装置,所述第二冷却装置包括缠绕在硅油冷却罐外侧的第二冷凝管、以及与第二冷凝管相通的第二冷却水循环装置。
6.根据权利要求1所述的高精度除硅设备,其特征在于:所述硅油箱与所述冷却罐机构之间还设置有溢流罐。
7.根据权利要求1所述的高精度除硅设备,其特征在于:所述真空蒸馏罐上通过母液循环泵还连通有储液罐。
8.根据权利要求7所述的高精度除硅设备,其特征在于:所述真空蒸馏罐上还设置有视镜、上液位控制装置和下液位控制装置,所述视镜为透明视镜并设置在所述真空蒸馏罐的罐壁上,所述上液位控制装置和下液位控制装置与所述母液循环泵相连。
9.根据权利要求1所述的高精度除硅设备,其特征在于:所述真空蒸馏罐内部上方还设置有蒸汽导流板。
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