[实用新型]X射线调整装置有效

专利信息
申请号: 201420378663.2 申请日: 2014-07-09
公开(公告)号: CN204014242U 公开(公告)日: 2014-12-10
发明(设计)人: 吴金杰;蒋伟;陈法君;李兵;杨元第 申请(专利权)人: 中国计量科学研究院
主分类号: H05G1/02 分类号: H05G1/02
代理公司: 北京亿腾知识产权代理事务所 11309 代理人: 李楠
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 射线 调整 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种X射线调整装置,尤其涉及一种多维的X射线调整装置。

背景技术

X射线标准辐射装置用于X射线辐射仪表的检定、校准与检测,以及工业无损检测等领域,但现有的设备不能实现对X射线主束轴方向的调整,或者调整过程复杂,很难实现X射线束主轴,限束光阑中心及辐射仪表定位装置(定位激光线)的同轴,尤其是在定位装置放置于较长导轨上行程可变情况下,更是不易实现,从而无法保证受检仪器设备探测器中心处于X射线光束中心,也无法确保其处于均匀辐射野中;同时,现有设备多为锁死式的,调整好射线束固定X射线光管后不宜拆卸,拆卸后很难复位,而且该方式在使用过程中因震动,碰撞等原因造成位置改变后也很难复位。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术的缺陷,提供一种X射线调整装置,从而实现方便和精确的X射线调整。

为实现上述目的,本实用新型提供了一种X射线调整装置,所述X射线调整装置包括:

竖直升降调整台,具有交叉的支撑臂和第一转轴,通过转动所述第一转轴改变所述支撑臂的交叉角度从而调节高度;

水平前后调整台,架设在所述竖直升降调整台上,具有第二转轴;

角度调整平台,穿设在所述第二转轴上,所述角度调整平台在所述第二转轴上沿与X射线光束平行方向平动;

水平位移调整平台,滑设在所述角度调整平台上,沿所述X射线光束垂直方向平动;所述水平位移调整平台随所述角度调整平台转动和角动。

进一步的,所述角度调整平台包括:

圆盘,穿设在所述第二转轴上;

铰接结构,与所述圆盘相连接,所述圆盘与所述铰接结构相对转动;

光学平台,与所述铰接结构相连接,通过所述铰接结构动作,所述光学平台与所述圆盘俯仰转动。

进一步的,所述水平位移调整平台上利用光管固定卡箍卡接发射所述X射线的X射线光管。

本实用新型X射线调整装置实现了方便和精确的X射线调整。

附图说明

图1为本实用新型X射线调整装置的示意图;

图2为本实用新型X射线调整装置的正视图。

具体实施方式

下面通过附图和实施例,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。

图1和图2为本实用新型X射线调整装置的示意图和正视图,本实用新型包括竖直升降调整台1、水平前后调整台2、角度调整平台3、水平位移调整平台4。

竖直升降调整台1具有交叉的支撑臂10和第一转轴11,通过转动第一转轴11改变支撑臂10的交叉角度从而调节高度;水平前后调整台2架设在竖直升降调整台上1,具有第二转轴21;角度调整平台3穿设在第二转轴上21,角度调整平台3在第二转轴21上沿与X射线光束平行方向平动;水平位移调 整平台4滑设在角度调整平台3,沿X射线光束垂直方向平动;水平位移调整平台4随角度调整平台3转动和角动。

具体的,竖直升降调整台1下部固定在承重的光学平台上,通过旋转第一转轴11带动丝杠,调整剪形支撑臂,可实现竖直方向(Z轴)升降运动。

水平前后调整台2通过第二转轴21使得丝杠旋转,旋转第二转轴21的把手可以带动丝杠上的位移块沿Y轴运动,位移块与角度调整平台3用螺母紧密固定。

角度调整平台3包括圆盘30、铰接结构31和光学平台32。圆盘30在下部,穿设在所述第二转轴21上,可调整与YZ面的夹角,±5°,调整好后可锁死。铰接结构31上部与光学平台32链接,下部与圆盘30链接,调整旋钮调节铰接结构31,实现光学平台32与水平前后调整台2俯仰角度的调节,可选的调节范围±3°。

水平位移调整平台4顶部为内凹结构,可初步固定X射线光管5,使其只能水平方向轻微距离的移动和旋转,其顶面有螺纹空,使用螺母,配合两个光管固定卡箍6可将X射线光管牢固的固定板,为防止震动,减轻震动,防止松动等原因造成光管位置移动和旋转,卡箍6内衬具有良好的耐磨性、耐老化性的橡胶垫。底部固定在角度调整平台3,实现水平向左右位移调整。

本实用新型X射线调整装置通过采用X射线光管五维调节的方式实现X射线辐射束主轴调整的功能,方便实现射线束与光阑、定位装置等的准直。

以上所述的具体实施方式,对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本实用新型的具体实施方式而已,并不用于限定本实用新型的保护范围,凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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