[实用新型]无铬耐指纹液搅拌釜有效

专利信息
申请号: 201420343416.9 申请日: 2014-06-24
公开(公告)号: CN203955069U 公开(公告)日: 2014-11-26
发明(设计)人: 何宗文 申请(专利权)人: 合肥普庆新材料科技有限公司
主分类号: B01F7/04 分类号: B01F7/04;B01F15/00
代理公司: 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 代理人: 朱广存;陈晓宇
地址: 230601 安徽省合肥市经开区桃花工*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 无铬耐 指纹 搅拌
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种搅拌釜,具体涉及一种无铬耐指纹液搅拌釜。

背景技术

耐指纹液的研究发展非常迅速,耐指纹板的使用范围也逐渐扩大。按照涂层的化学性质划分,耐指纹处理经历了无机系列膜和有机系列膜两个阶段,而有机系列膜又可分为传统型和环保型。环保型有机系列膜是现代耐指纹处理的主流和研究重点,其关键技术在于无铬型钝化液的选用。在搅拌釜进行搅拌时,在添加二氧化硅粉末、树脂能成分时,容易附着在斧体内侧壁,影响耐指纹液涂覆及成膜等性能。在清理斧体内壁时,费时、费力,进一步影响后续产品的性能。

实用新型内容

为解决现有搅拌釜出现的固体及粘性成分挂壁影响产品性能的问题,本实用新型提出一种无铬耐指纹液搅拌釜,该搅拌釜能够保证耐指纹液具有良好涂覆及成膜性能,并且易于清理釜体内壁。

本实用新型的技术方案是这样实现的:

一种无铬耐指纹液搅拌釜,包括釜体以及位于釜体顶部的釜盖,所述釜体内侧壁固定有旋转装置,所述旋转装置包括安装在所述釜体内侧壁上的基座与旋转器,所述基座上面设置有与所述旋转器吻合的通孔;所述旋转器包括旋转轴以及等间隔分布在旋转轴上面的旋转片,所述旋转轴安装所述基座的通孔上。

进一步,所述旋转片形状为圆形、正六边形或者菱形。

进一步,所述釜盖上面设置有照明装置。

进一步,所述照明装置包括设置在所述釜盖上的空心圆柱体以及位于所述空心圆柱体上方的投射灯,所述空心圆柱体顶部并位于所述投射灯下方设置有透明盖,所述圆柱体顶部及底部均开口。

进一步,所述釜体外侧设置有观察装置,所述观察装置一端与釜体侧壁连通,另一端设置有观察镜。

本实用新型的有益效果:

1)、本实用新型无铬耐指纹液搅拌釜在釜体内侧壁固定有旋转装置,该旋转装置增加了对液体搅拌的剪切力,特别是对粘性液体的剪切力大大增加,避免了因为搅拌桨覆盖不到釜体内侧壁而导致粘性液体和固体挂在釜体内壁情况的发生。

2)、本实用新型的搅拌釜增加了照明装置与观察装置,可观察到搅拌釜中搅拌液的搅拌情况,从而避免了现有技术中因观察不到搅拌釜内的物料反应情况而带来的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型无铬耐指纹液搅拌釜的结构示意图;

图2为旋转装置的基座的结构示意图;

图3为旋转装置的旋转器的结构示意图。

附图标示:1、釜体,2、釜盖,3、旋转装置,4、空心圆柱体,5、投射灯,6、观察装置,301、基座,302、通孔,303、旋转片,304、旋转轴。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

参照图1和图2,一种无铬耐指纹液搅拌釜,包括釜体1以及位于釜体1顶部的釜盖2。釜体1内侧壁固定有旋转装置3。旋转装置3包括安装在釜体1内侧壁上的基座301与旋转器。基座301上面设置有与旋转器吻合的通孔302。如图3所示,旋转器包括旋转轴304以及等间隔分布在旋转轴304上面的旋转片303。旋转轴303安装基座的通孔302上。旋转片303形状为圆形(当然也可以为正六边形或者菱形)。该旋转装置3增加了对液体搅拌的剪切力,特别是对粘性液体的剪切力大大增加,避免了因为搅拌桨覆盖不到釜体1内侧壁而导致粘性液体和固体挂在釜体1内壁情况的发生。

进一步,本实施例中,釜盖2上面设置有照明装置。照明装置包括设置在釜盖2上的空心圆柱体4以及位于空心圆柱体4上方的投射灯5。空心圆柱体4顶部并位于投射灯5下方设置有透明盖(图中未示出),圆柱体4顶部及底部均开口。釜体1外侧设置有观察装置6。观察装置6一端与釜体1侧壁连通,另一端设置有观察镜(图中未示出)。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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