[实用新型]一种光掩膜版

权利要求书

1.一种光掩膜版，包括前层图案区及环绕所述前层图案区的切割道区，所述切割道区形成有套刻标记图形区，其特征在于：所述套刻标记图形区还形成有密集线条图形，所述密集线条图形整体为一方形，该方形由其两条对角线划分为四个等腰三角形区域，所述等腰三角形区域由若干垂直于该等腰三角形区域底边的线条图形间隔排列组成。

2.根据权利要求1所述的光掩膜版，其特征在于：所述等腰三角形区域中，相邻两条线条图形的间距相等。

3.根据权利要求1所述的光掩膜版，其特征在于：所述等腰三角形区域中，所有线条图形的线宽相等。

4.根据权利要求1所述的光掩膜版，其特征在于：相邻两个等腰三角形区域中的线条图形一一对应且相互连接。

5.根据权利要求1所述的光掩膜版，其特征在于：所述线条图形的线宽根据实际刻蚀线条宽度与光阻厚度为1:3的比例设计。

6.根据权利要求1所述的光掩膜版，其特征在于：所述线条图形的线宽根据实际刻蚀线条宽度为0.5微米设计。

7.根据权利要求1所述的光掩膜版，其特征在于：所述线条图形的线宽小于或等于前层器件结构中的最小线宽。

8.根据权利要求1所述的光掩膜版，其特征在于：所述密集线条图形的中心与所述套刻标记图形区的中心重合，且所述密集线条图形中的线条图形与所述套刻标记图形区中的套刻标记正交。

9.根据权利要求1所述的光掩膜版，其特征在于：所述套刻图形区的套刻标记由四条标记条组成，该四条标记条间隔分布于一个方形的四条边上。

10.根据权利要求1所述的光掩膜版，其特征在于：所述光掩膜版为顶层金属掩膜版，用于顶层金属层的光刻。