[实用新型]一种基于QLED光源的光刻机有效
| 申请号： | 201420210344.0 | 申请日： | 2014-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN203858450U | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | 盛晨航;彭娟;李喜峰;张建华 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 陆聪明 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 qled 光源 光刻 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于QLED光源的光刻机，其特征在于，包括发光控制器（1），QLED阵列（3），透镜组（4），图形发生器（5），投影光路（6），基片（7）和移动平台（8）；所述QLED阵列（3）安装在发光控制器（1）上，组成QLED光源光学系统（2）；所述透镜组（4）位于QLED光源光学系统（2）的右上方，与QLED阵列（3）同轴，所述图形发生器（5）位于透镜组（4）同轴的右上方，所述投影光路（6）位于图形发生器（5）与移动平台（8）之间，并垂直于移动平台（8），所述基片（7）固定于移动平台（8）上；所述发光控制器（1）设置QLED阵列（3）的曝光时间和相对辐照强度，所述透镜组（4）用于对光束进行整形，光束经由所述图形发生器（5）以及投影光路（6）实现对基片（7）的曝光。
2.根据权利要求1所述的基于QLED光源的光刻机，其特征在于，所述QLED阵列（3）的光强不均匀度在光刻面积内小于5%。
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