[实用新型]一种曝光装置和曝光系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，具体地，涉及一种曝光装置和曝光系统。

背景技术

曝光是微加工过程中一个必不可少的工艺，特别是在显示行业，无论是电路的刻蚀，还是彩色滤光片的制作，都与曝光密切相关。

目前的曝光技术，如图1所示，通常是在待曝光膜3(如光刻胶)上方设置掩模板7，使曝光光线(如紫外光)通过掩模板7后照射到待曝光膜3上。掩模板7上设置有透光区域和不透光区域，对于正性光刻胶，透过掩模板7的透光区域被紫外光照射的光刻胶显影后被去除，对于负性光刻胶则恰好相反，透过掩模板7的透光区域被紫外光照射的光刻胶显影后被保留下来，从而最终形成所需要的目标图案。

常见的曝光方式有接近式、接触式和投影式三种，在产线生产时为了避免掩模板的划伤和污染，通常采用接近式曝光和投影式曝光，但这两种曝光方式的曝光精度都不高。

随着显示技术的发展，微工艺中所需要形成的目标图案的尺寸变得越来越小，如：采用掩模板曝光形成一些细小线条状图案或细小点状图案，由于掩模板中的透光区域尺寸很小，无论采用接近式曝光还是投影式曝光都容易出现曝光光线的衍射现象，使细小线条状图案或细小点状图案的曝光精度非常低，几乎无法实现。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种曝光装置和曝光系统。该曝光装置通过设置曝光管，使待曝光膜经曝光后形成线条状图案和/或点状图案，从而解决了采用掩模板几乎无法实现的细小线条状图案和细小点状图案的曝光，同时还提高了曝光精度。

本实用新型提供一种曝光装置，包括光源，还包括曝光管，所述曝光管设置在所述光源的发光侧，所述光源发出的光线能从所述曝光管的入口射入所述曝光管内，并从所述曝光管的出口射出，照射到待曝光膜上，以使所述待曝光膜经曝光后形成线条状图案和/或点状图案。

优选地，所述曝光管呈直管状，所述入口位于所述曝光管靠近所述光源的一端，所述出口位于所述曝光管远离所述光源的一端，所述出口能与所述待曝光膜相对；所述出口与所述点状图案的形状和大小相同，所述出口的最大尺寸等于所述线条状图案的线宽。

优选地，所述曝光管的管壁不透光，所述光源设置在不透光的盒子内，所述盒子的底部开设有开口，所述开口与所述入口相适配并对接连接。

优选地，所述曝光管为圆锥形管，所述出口的垂直于所述曝光管的长度方向的截面积小于所述入口的垂直于所述曝光管的长度方向的截面积，或者，所述曝光管为圆柱形管。

优选地，所述出口的直径≤2.5μm。

优选地，所述出口与所述待曝光膜之间的距离≤150μm。

优选地，还包括凸透镜，所述凸透镜设置在所述曝光管内且其四周边缘与所述曝光管的内壁接触，所述光源位于所述凸透镜的焦点位置。

优选地，还包括移动机构，所述移动机构与所述盒子的顶部或侧壁连接，所述移动机构能带动所述盒子、设置在所述盒子内的所述光源以及所述曝光管移动，以使所述出口在所述待曝光膜的正投影方向上移动。

优选地，还包括遮挡元件，所述遮挡元件活动设置在所述盒子的靠近所述开口的盒壁上，所述遮挡元件能对所述开口进行遮挡或裸露，以使所述光源照射至所述开口的光线被遮挡住或不被遮挡住。

本实用新型还提供一种曝光系统，包括上述曝光装置。

优选地，所述曝光系统包括多套所述曝光装置，每套所述曝光装置中的曝光管的出口尺寸不同。

本实用新型的有益效果：本实用新型所提供的曝光装置，通过设置曝光管，使光源发出的光线能从曝光管的入口射入曝光管内，并从曝光管的出口射出，照射到待曝光膜上，以使待曝光膜经曝光后形成线条状图案和/或点状图案，从而解决了采用掩模板几乎无法实现的细小线条状图案和细小点状图案的曝光，同时还提高了曝光精度。

本实用新型所提供的曝光系统，通过采用上述曝光装置，大大提高了曝光效率。

附图说明

图1为现有技术中的曝光示意图；

图2为本实用新型实施例1中曝光装置的结构示意图；

图3为图2中曝光管与盒子的连接示意图；

图4为本实用新型实施例2中曝光系统的结构示意图。

其中的附图标记说明：

1.光源；11.盒子；111.开口；2.曝光管；21.入口；22.出口；3.待曝光膜；4.凸透镜；5.移动机构；6.遮挡元件；7.掩模板。

具体实施方式