[实用新型]一种测厚仪自循环水路有效

专利信息
申请号: 201420113278.5 申请日: 2014-03-13
公开(公告)号: CN203963507U 公开(公告)日: 2014-11-26
发明(设计)人: 朱卫民;李蔚森 申请(专利权)人: 马鞍山恒瑞测量设备有限公司
主分类号: F17D1/08 分类号: F17D1/08;F17D3/01;F17D5/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 243000 安徽省马鞍*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 测厚仪 循环 水路
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及测量设备领域,具体地说涉及一种测厚仪自循环水路。

背景技术

作为板材在线检测的一种重要检测设备X射线测厚仪在其工作的过程中由于生产的要求,具有无论外界环境情况如何变化,都要求稳定,并且支持连续不间断工作的特点。所以,需要为设备系统建立一套独立的环境系统,由于设备工作环境恶劣,因此,需要相对密闭,但设备工作过程中会产生发热,在密闭环境下,随着热量的积累,会导致设备环境温度升高,致使设备损坏。为此,通常X射线测厚仪设备提供一套独立的冷却水循环系统,该冷却水循环系统是自循环系统,冷却水由自身水箱供应,一旦水路系统出现泄漏,会导致水箱水流失,水冷机停止工作,失去对设备的保护作用。然而这种水路的接头、过度很多,有些在设备的结构内部,光线差,在加上角度等原因,想要彻底检漏成为一项重要的工作。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种快速检漏的测厚仪自循环水路。

为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:一种测厚仪自循环水路,包括高压水箱、水管和冷却机;所述高压水箱的出水口接水管连接冷却机的进水口,冷却机的出水口接水管通至测厚仪具有的射线源,所述射线源内设水循环系统,射线源的出水口接水管连接测厚仪具有的检测器进水口,检测器的出水口接水管连接高压水箱的入水口;所述测厚仪自循环水路还包括检测时所需的荧光检漏灯。

优选的,所述测厚仪自循环水路的水中添加检漏剂。

优选的,所述检漏剂为一种水溶性的检漏剂,检漏剂中内含有荧光粉。

优选的,所述连接高压水箱与冷却机的水管上设置有流量计和报警器。

优选的,所述连接高压水箱与检测器的水管上设置有流量计和水阀。

本实用新型的有益效果是:当流量计之间出现大于设定差值的流量差时,报警器就会报警,则预示测厚仪自循环水路中出现渗漏。该测厚仪检测水路的水中添加水性荧光检漏剂,通过冷却机的水泵工作循环,带动荧光剂在水路中流过,经过一段时间后用荧光检测灯沿管路照射,有渗漏的地方在荧光灯的照射下会发出荧光,可以准确定位渗漏点,及时进行维修补漏。该水路的防渗漏检测效率高,操作简单,定位准确,非常适于工厂等复杂环境和空间狭小的环境下对管路的检查。该水路同样适用于工业系统各种流体的渗漏的检测,如机油、液压油、制冷剂、汽油、柴油、水、压缩空气或压缩气体的渗漏检测。

附图说明

图1为本实用新型一种测厚仪自循环水路的结构示意图;

其中:1.测厚仪、2.高压水箱、3.冷却机、4.水管、5. 射线源、6. 检测器、7.流量计、8.报警器、9.水阀。                

具体实施方式

为了加深对本实用新型的理解,下面将结合实施例和附图对本实用新型作进一步描述,该实施例仅用于解释本实用新型,并不构成本实用新型保护范围的限定。

下面结合附图1详细说明本实用新型的优选实施方式:一种测厚仪自循环水路,包括高压水箱2、水管4和冷却机3;高压水箱2的出水口接水管4连接冷却机3的进水口,冷却机3的出水口接水管4通至测厚仪1具有的射线源5,射线源5内设水循环系统,射线源5的出水口接水管4连接测厚仪具有的检测器6进水口,检测器6的出水口接水管4连接高压水箱2的入水口。本发明中的测厚仪自循环水路还包括检测时所需的荧光检漏灯。在本测厚仪自循环水路的水中添加检漏剂,所述的检漏剂为一种水溶性的检漏剂,检漏剂中内含有荧光粉。本发明中在连接高压水箱2与冷却机3的水管4上设置有流量计7和报警器8,在连接高压水箱2与检测器6的水管4上设置有流量计7和水阀9。当流量计7之间出现大于设定差值的流量差时,报警器8就会报警,则预示测厚仪自循环水路中出现渗漏。该测厚仪检测水路的水中添加水性荧光检漏剂,通过冷却机3的水泵工作循环,带动荧光剂在水路中流过,经过一段时间后用荧光检测灯沿管路照射,有渗漏的地方在荧光灯的照射下会发出荧光,可以准确定位渗漏点,及时进行维修补漏。该水路的防渗漏检测效率高,操作简单,定位准确,非常适于工厂等复杂环境和空间狭小的环境下对管路的检查。该水路同样适用于工业系统各种流体的渗漏的检测,如机油、液压油、制冷剂、汽油、柴油、水、压缩空气或压缩气体的渗漏检测。

以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。

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