[实用新型]薄膜表面改质装置及偏光膜制造装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种薄膜表面改质装置及偏光膜制造装置。

背景技术

现今，液晶显示器因其优越的性能而备受瞩目。也正是因此，液晶显示器的关键部件之一即偏光片的制造技术也受到了越来越多的关注。

偏光片是一种十分薄的光学膜，在偏光片的制造工序中，通常要在偏光片的两侧贴上三乙酸纤维素制的保护膜（TAC膜），这样做的目的一方面是为了保护偏光片不碎裂，另一方面是为了防止偏光片的回缩。在保护膜与偏光片彼此贴合之前，为了提高保护膜的密着性，以往一般是将保护膜浸渍在碱性水溶液中进行皂化处理（日本特开平8-94838号公报）。但是，在这种处理方法中，保护膜的两面同时被实施亲水处理，若在向保护膜的单面涂设聚乙烯醇等亲水性层之后将其卷绕成卷筒状，正反面将粘在一起。

为了解决以上的问题，提出了一种对不需要提高密着性的面进行防水加工从而仅对保护膜的单面实施皂化处理的方法，不过，这种方法不但会导致增加烦杂的工序，而且在处理过程中还会产生不需要的废弃物，因此从生产性、环境保护的角度来看并不十分理想。

另外，日本专利公开第2007-161769号公报针对上述问题而提出了一种皂化处理生产线，其包括向保护膜表面涂布碱性溶液的碱性溶液涂布部、使涂布碱性溶液后的保护膜的温度维持在室温以上的温度维持部、向维持温度的温度保护膜涂布稀释溶剂或酸性溶液而使反应停止的反应停止部、自停止反应的保护膜上洗去碱性水溶液的清洗部和使洗净后的保护膜干燥的干燥部。这样的生产线虽然不对不需要提高密着性的面进行防水加工就能对保护膜的单面实施皂化处理，但整体结构较为复杂，不利于实现小型化。

实用新型内容

本实用新型是鉴于上述技术问题而做出的，目的在于提供一种能够容易地提高薄膜单面的亲水性的薄膜表面改质装置。另外，本实用新型还提供一种应用上述薄膜表面改质装置的偏光膜制造装置。

为了达成上述目的，本实用新型提供一种薄膜表面改质装置，该薄膜表面改质装置包括：处理辊，其输送薄膜，与地面电连接；放电电极，其放电端与所述处理辊的表面相对设置；供电部，其与所述放电电极电连接，用于向所述放电电极通电，从而在该放电电极与所述处理辊之间发生电晕放电。

根据该技术方案，在薄膜的表面改质处理过程中，供电部向放电电极供给电力，在该放电电极与接地的处理辊之间产生规定的电压，从而发生电晕放电。在待处理的薄膜经过放电电极与处理辊之间时，处于放电电极一侧的面受到从放电电极向处理辊的电晕放电照射，亲水性提高，而处于处理辊一侧的面不会受到电晕放电处理，亲水性几乎不变。由于不需要对薄膜实施防水加工，也不需要形成为复杂的结构，仅通过电晕放电照射就能提高薄膜的放电电极一侧的面的亲水性，因此能够容易地提高薄膜单面的亲水性。

另外，优选地，所述放电电极设有多个，多个所述放电电极在所述处理辊的周向上间隔配置。

另外，优选地，在设多个放电电极的情况下，在所述处理辊的周向上彼此相邻设置的放电电极的放电端之间的距离为50mm～400mm。

另外，优选地，所述放电电极的放电端与所述处理辊的表面之间的距离为1mm～3mm。

另外，优选地，所述放电电极的放电端的截面形成为波浪形状、圆弧形状或楔形形状。

另外，优选地，所述放电电极由不锈钢或或铝制成。

另外，优选地，所述处理辊包括与地面电连接的金属制的辊芯和嵌套在辊芯的外周面上的衬套，所述衬套由硅橡胶或陶瓷制成。

另外，优选地，薄膜表面改质装置还包括：处理室，其容纳所述处理辊和所述放电电极，设有排气口、供待处理的薄膜进入的薄膜入口和供处理完的薄膜送出的薄膜出口；排气机，其与所述排气口连通。

为了实现另一目的，本实用新型还提供一种偏光膜制造装置，该偏光膜制造装置包括供给原料膜的原料膜供给部、将来自该原料膜供给部的原料膜制造成偏光片的偏光片制造部、供给保护膜的保护膜供给部、对来自该保护膜供给部的保护膜的表面进行表面改质处理的保护膜处理部、将所述保护膜的经过所述表面改质处理的表面贴合在所述偏光片的表面上从而形成偏光膜的贴合处理部和卷取该偏光膜的偏光膜卷取部，所述保护膜处理部利用以上所述的薄膜表面改质装置进行所述表面改质处理。