[发明专利]用于加工指纹识别键的高光倒角刀在审
申请号: | 201410720221.6 | 申请日: | 2014-12-01 |
公开(公告)号: | CN104400033A | 公开(公告)日: | 2015-03-11 |
发明(设计)人: | 朱松林;廖志雄 | 申请(专利权)人: | 中山火炬开发区园丰刀具厂(普通合伙) |
主分类号: | B23B27/00 | 分类号: | B23B27/00 |
代理公司: | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 | 代理人: | 邹常友 |
地址: | 528400 广东省中山市火*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 加工 指纹识别 倒角 | ||
【技术领域】
本发明涉及到一种用于加工指纹识别键的高光倒角刀。
【背景技术】
据市场调查和专利检索,在对不锈钢等产品进行高光倒角加工,特别手机中的指纹识别键的要求的光洁面相当高,现有的倒角刀加工后容易产生批锋、 毛刺、异色、条纹和振纹等不良,而且光洁度低,成品率不高,导致需要 增加后期的人工去毛刺的工序,生产效率低,质量差,退货率高。 为了克服上述缺陷,我们研制了一种用于加工指纹识别键的高光倒角刀。
【发明内容】
本发明的目的所要解决的技术问题是要提供一种用于加工指纹识别键的高光倒角刀,它具有一次加工完成高光表面;结构牢固,经久耐用,工作稳定性和安全性较好,大大提高生产效率。因此,它是一种技术性和经济性均具优越性能的产品。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案是:一种用于加工指纹识别键的高光倒角刀,它包括刀柄及形成于刀柄一端面的刀刃部,所述刀刃部向转轴方向延伸形成一底面;用于切削圆锥形高光内面的主刀刃,主刀刃的与所述转轴的角度为74.75度,公差正负为0.25度;后角刃宽0.13mm,其公差为正负0.02 mm。
于本发明的一个或多个实施例中,所述刀柄为圆柱状,所述刀刃部形成于所述端面的四分之一区域内。
于本发明的一个或多个实施例中,所述刀刃部呈扇形,其设于主刀面第一侧面置于所述转轴的垂直线上,第二侧面与所述第一侧形成直角。
于本发明的一个或多个实施例中,所述底面至所述端面的高度为2 mm。
于本发明的一个或多个实施例中,所述第二侧面的距转轴距离为1.3 mm。
于本发明的一个或多个实施例中,所述刀柄及形成于刀柄一端面的刀刃部采用钨钢材料制成。
于本发明的一个或多个实施例中,所述底面平行于所述端面。
本发明同背景技术相比所产生的有益效果:
本发明采用了上述技术方案,它具有一次加工完成高光表面;结构牢固,经久耐用,工作稳定性和安全性较好,大大提高生产效率。因此,它是一种技术性和经济性均具优越性能的产品。
【附图说明】
图1为本发明的具体实施方式中用于加工指纹识别键的高光倒角刀的立体结构示意图;
图2为本发明的具体实施方式中用于加工指纹识别键的高光倒角刀主视面结构示意图;
图3为本发明的具体实施方式中用于加工指纹识别键的高光倒角刀加工状态下的结构示意图。
【具体实施方式】
下面详细描述本发明的实施例,所述的实施例示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述实施例是示例性的,旨在解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要说明的是,对于方位词,如有术语“中心”,“横向” 、 “纵向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于叙述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作,不能理解为限制本发明的具体保护范围。
此外,如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”特征可以明示或者隐含包括一个或者多个该特征,在本发明描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除另有明确规定和限定,如有术语“组装”、“相连”、“连接”术语应作广义去理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;也可以是机械连接;可以是直接相连,也可以是通过中间媒介相连,可以是两个元件内部相连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述的术语在本发明中的具体含义。
在发明中,除非另有规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一特征和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“之下”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅是表示第一特征水平高度高于第二特征的高度。第一特征在第二特征 “之上”、“之下”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度低于第二特征。
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