[发明专利]高透光率低辐射自清洁玻璃

权利要求书

1.高透光率低辐射自清洁玻璃，其特征在于：该玻璃一个表面具有三层镀层，由外至内一次为介质层1、介质层2、介质层3、基层（玻璃）。

2.根据权利要求1所述的高透光率低辐射自清洁玻璃，其特征在于：所述的镀层采用真空磁控溅射工艺加工而成，镀层表面水接触角＜2o。

3.根据权利要求1所述的高透光率低辐射自清洁玻璃，其特征在于：所述的介质层1由磁控溅射工艺制得的厚度为15~200nm的含稀土元素氧化钛层，其成分主要为锐钛矿型TiO2，并掺杂有铈、铕或铒稀土金属元素。

4.根据权利要求1所述的高透光率低辐射自清洁玻璃，其特征在于：所述的介质层2由磁控溅射工艺制得的厚度为10~150nm的氧化钛或氧化硅混合物层，氧化钛与氧化硅的比例介于1:10至1:2之间。

5.根据权利要求1所述的高透光率低辐射自清洁玻璃，其特征在于：所述的介质层3由磁控溅射工艺制得的厚度为5~350nm的金属氧化物或金属卤化物层，其成分包括氟化镁、氟化银、氟化钙、铟锡氧化物、氧化锆或氧化镍。

6.根据权利要求1所述的高透光率低辐射自清洁玻璃，其特征在于：所述的基层由钠玻璃、高硼硅玻璃、K9玻璃制造的平板玻璃或热弯玻璃，其形态为钢化或非钢化两种。