[发明专利]荷兰小黄瓜温室栽培方法

说明书

技术领域

本发明涉及农业种植领域，尤其是一种荷兰小黄瓜温室栽培方法。

背景技术

荷兰小黄瓜多为雌性系，主要作温室栽培用，与大多数露地栽培品种不同 的是，它们可以不经授粉受精就完成果实的发育，但并不形成发育完全的种子。 雌性系的优点是果实成熟度一致，早期产量高。此类型瓜的特点为：瓜密，有1 节1瓜的、1节2瓜的和1节多瓜的。而且，如果管理水平得当，丰产潜力很大， 单茬667平方米产量可在10000kg以上，1年可种2—3茬。

由于种植对外来瓜种的不熟，常常导致产量不高，植株病死等常见症状。

发明内容

本发明的发明目的在于：针对上述存在的问题，提供一种荷兰小黄瓜温室 栽培方法，具有栽培工序简洁，植株抗病能力强，产量高的特点。

本发明采用的技术方案如下：荷兰小黄瓜温室栽培方法，包括步骤播种、 定植、田间管理和采瓜期管理；所述播种为播种前先浸种4－6小时后，不经催 芽直接点播，每穴点播一粒，播种后用过筛细潮土覆盖；播种后，出苗前，昼 夜温度保持在24－26℃；苗出齐后，保持白天温度23－25℃，夜间为16－18 ℃；

所述定植为定植前10－15天每亩施有机肥5000kg和二铵100kg，并按70cm 行距做畦；定植时，选晴天的下午进行，按株距35cm挖坑座水栽苗，定植深度 不宜过深2－4cm，亩栽2500－2800株。

优选的，所述田间管理包括定植后浇2－3次水，除定植水外，隔日再浇缓 苗水；7－8天完成缓苗，恢复生长再浇1次水，及时浇水对促进缓苗，保持植 株的旺盛生长尤为重要。

优选的，所述采瓜期管理包括温度管理、水肥管理和其他管理；

所述温度管理为前期气温控制不要过高，保持白天25－30℃，夜间13－15 ℃，阴天20－22℃，当外界平均气温降至12－14℃时，加盖草苫或无纺布；严 冬时温度白天保持23－25℃，不超过28℃，次日早晨不低于12℃；

所述水肥管理隔10天浇水一次，以后随气温降低15天浇一次；隔1－2次 水追一次肥，每次亩追施腐熟有机肥100－200kg或二铵10－20kg；在结瓜期叶 面喷0.2％磷酸二氢钾，并结合人工喷施二氧化碳气肥；

若底肥不足，可在第3次浇水前，于定植行两侧开沟适施少量腐熟有机肥， 注意不能追施速效氮肥。肥后锄划松土保墒，下次浇水追肥应在根瓜膨大期视 情况而定，土壤缺水植株弱时需要提前到根瓜膨大前进行；不缺水长势旺盛时 可推迟到根瓜采收以后；这次追肥一般结合浇水冲入二铵等。

所述其他管理为小黄瓜在植株八、九片叶，茎蔓38－42cm时，开始用 尼龙绳吊蔓，固定茎蔓；将植株7节以下侧枝去掉，7节以上保留侧枝1－2个 结瓜，当侧枝结瓜达到10－12节后掐尖，主蔓22－25节时摘顶。

为防止根瓜坠秧，如出现根瓜较多时(两个以上)宜保留1个，其余去掉。 有的品种小黄瓜在生长发育过程中，常常会出现一节两个瓜或一节多个瓜，表 现为生殖生长强于营养生长，对此也应进行必要的疏花疏果，以调节植株的营 养生长。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：采用上述栽 培方法不仅操作简洁且植株的抗病能力得到加强，同时产量得到提高。

具体实施方式

本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相 排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。

本说明书(包括任何附加权利要求、摘要)中公开的任一特征，除非特别叙 述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述， 每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。

实施例1

荷兰小黄瓜温室栽培方法，包括步骤播种、定植、田间管理和采瓜期管理； 所述播种为播种前先浸种4小时后，不经催芽直接点播，每穴点播一粒，播种 后用过筛细潮土覆盖；播种后，出苗前，昼夜温度保持在24℃；苗出齐后，保 持白天温度23℃，夜间为16℃；

所述定植为定植前10天每亩施有机肥5000kg和二铵100kg，并按70cm行 距做畦；定植时，选晴天的下午进行，按株距35cm挖坑座水栽苗，定植深度不 宜过深2cm，亩栽2500株。