[发明专利]光学滤波器装置、光学模块以及电子设备有效

专利信息
申请号: 201410659191.2 申请日: 2014-11-18
公开(公告)号: CN104656176B 公开(公告)日: 2019-04-19
发明(设计)人: 松下友纪 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02B26/00;G01J3/02;G01N21/25
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 滤波器 装置 模块 以及 电子设备
【说明书】:

本发明提供一种光学滤波器装置、光学模块以及电子设备。光学滤波器装置(500)具备:波长可变干涉滤波器(501),具有彼此相对的一对反射膜(54、55)以及改变一对反射膜(54、55)的间隙尺寸的静电致动器(56);带通滤波器(502),设置在一对反射膜(54、55)的光轴上。带通滤波器(502)具有多个使光透过的透过波段。

技术领域

本发明关于光学滤波器装置、光学模块以及电子设备。

背景技术

以前,已知有使用法布里-珀罗标准具元件(光学滤波器装置),从射入光测量规定波长的光的光量的测量装置(例如,参照专利文献1)。

该专利文献1中记载的装置,控制对致动器的施加电压,使构成光学滤波器装置的一对反射膜间的距离变化,使对应于反射膜间的间隙尺寸的波长的光透过,并由光接收元件接收。

然而,在如上述专利文献1中记载的测量装置中,在测量较宽波段的分光特性的情况下,作为构成光学滤波器装置的一对反射膜,优选使用Ag合金等金属膜。但是,在使用这种金属膜的情况下,透过光学滤波器装置的光的半幅值变大,分辨率降低。即,以实施光量测量的波长为中心的较宽波段的光从光学滤波器装置射出,存在不能获得精度较高的测量结果的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平01-94312号公报

发明内容

本发明的目的在于,提供能够高精度地射出期望波长的光的光学滤波器装置、光学模块以及电子设备。

本发明的光学滤波器装置,其特征在于具备:波长可变干涉滤波器,具有彼此相对的一对反射膜以及改变所述一对反射膜的间隙尺寸的间隙改变部;以及带通滤波器,设置在所述一对反射膜的光轴上,其中,所述带通滤波器具有包括使光透过的多个透过波段的光学特性,并且所述各透过波段(wavelength band)各自不同。

在本发明中,在带通滤波器的光学特性(光透过率特性)中,设置有多个透过波段。即,在带通滤波器中,对于规定的波段,使光透过的透过波段和不使光透过(例如透过率为规定值以下)的非透过波段交替排列。在这种构成中,通过利用间隙改变部改变一对反射膜的间隙间隔,使从波长可变干涉滤波器射出的光的峰值波长在带通滤波器的透过波段内。对于从波长可变干涉滤波器射出的光,以对应于间隙间隔的峰值波长为中心的规定波段的光射出,但是在上述构成中,其中透过波段外的光(非透过波段的光)被带通滤波器阻挡,透过波段内的光透过。此时,在对应于峰值波长的透过波段以外的其他透过波段中,也有光透过,但是,由于从波长可变干涉滤波器射出的该其他透过波段中所包含的光的光量非常小,因此对测量精度的影响较小。

因此,在本发明中,能够从光学滤波器装置高精度地射出期望波长的光,实现了分辨率的提高。

在本发明的光学滤波器装置中,优选的是,所述各透过波段比从所述波长可变干涉滤波器射出的光的半幅值小。

在本发明中,带通滤波器的各透过波段比从波长可变干涉滤波器射出的光的半幅值小。在这种构成中,比包含峰值波长在内的半幅值小的波段内的光从光学滤波器装置射出。在透过波段的带宽为半幅值以上的情况下,在作为期望波长的峰值波长的光以外,不需要的波长成分的光的光量也增大,不能实现足够的分辨率的提高。对此,如本发明,通过使透过波段的带宽比半幅值小,能够实现光学滤波器装置的分辨率的进一步的提高。

在本发明的光学滤波器装置中,优选的是,多个所述透过波段的间隔比从所述波长可变干涉滤波器射出的光的半幅值的一半大。

在本发明中,夹着非透过波段的两个透过波段的间隔、即非透过波段的带宽,比从所述波长可变干涉滤波器射出的光的半幅值的一半大。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410659191.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top