[发明专利]干式指纹清洗装置

说明书

本发明是涉及一种干式指纹清洗装置，所述干式指纹清洗装置，通过利用超声波和清洗毛巾的物理清洗以及利用等离子的清洗，并使用干式清洗方法去除形成在被清洗基板表面上的指纹等污染物。本发明的干式指纹清洗装置包括：基板搬送部，使被清洗基板朝向一侧方向移动；超声波清洗部，设置于所述基板搬送部的入口上侧，用于使用超声波清洗通过所述基板搬送部搬送的被清洗基板的上表面；清洗液清洗部，与所述超声波清洗部相邻而设置，用于使用沾有清洗液的清洗毛巾揉擦并清洗所述被清洗基板的上表面；等离子清洗部，与所述清洗液清洗部相邻而设置，用于通过对所述被清洗基板的上表面喷射等离子来进行清洗。

技术领域

本发明涉及一种干式指纹清洗装置，更详细而言，涉及一种如下的干式指纹清洗装置：通过利用超声波和清洗毛巾的物理清洗以及利用等离子的清洗，并使用干式清洗方法去除形成在被清洗基板表面上的指纹等污染物。

背景技术

显示器元件中使用的玻璃基板及塑料基板等具有不允许任何对其表面的污染的特性。但是，在操作过程中有可能在基板表面发生各种污染，因此必须伴随针对所述污染的彻底的清洗操作。

在这些基板污染源中，最难清洗的是操作者在手动操作中产生的指纹。形成在基板的指纹非常难以去除，因此大部分情况下利用强力清洗剂等化学物质来进行湿式清洗操作。

然而，如果以这种湿式清洗方法来去除指纹，则存在清洗及干燥等操作变得复杂、且所需的操作时间长的问题，而且，由于清洗液处理等原因，有可能导致环境污染的问题。

因此，迫切需要开发能够简单且迅速处理形成在基板上指纹的干式清洗技术。

发明内容

发明要解决的问题

本发明要解决的技术问题是提供一种干式指纹清洗装置，所述干式指纹清洗装置，通过利用超声波和清洗毛巾的物理清洗以及利用等离子的清洗，并使用被干式清洗方法去除形成在清洗基板表面的指纹等污染物。

解决问题的方法

为解决上述的技术课题的本发明的式指纹清洗装置包括：基板搬送部，使被清洗基板朝向一侧方向移动；超声波清洗部，设置于所述基板搬送部的入口上侧，用于使用超声波清洗通过所述基板搬送部搬送的被清洗基板的上表面；清洗液清洗部，与所述超声波清洗部相邻而设置，用于使用沾有清洗液的清洗毛巾揉擦并清洗所述被清洗基板的上表面；等离子清洗部，与所述清洗液清洗部相邻而设置，用于通过对所述被清洗基板的上表面喷射等离子来进行清洗。

另外，优选地，本发明的所述基板搬送部包括：一对旋转滚筒，设置于所述基板搬送部的两侧端部；输送机，均匀地形成有多个吸附孔，用于在卷绕在所述一对旋转滚筒的状态下随着履带转动，同时使所述被清洗基板水平移动；真空吸附模块，设置于所述基板搬送部中的所述清洗液清洗部的下侧，用于通过真空吸附所述输送机的下表面，吸附安装在所述输送机的上表面上的清洗用基板的下表面。

另外，优选地，本发明的所述清洗液清洗部包括：清洗毛巾供应辊，设置于所述真空吸附模块的上侧，用于在卷绕清洗毛巾的状态下供应清洗毛巾；清洗毛巾回收辊，与所述清洗毛巾供应辊相邻而设置，用于卷绕并回收已使用过的清洗毛巾；加压滚筒，设置于所述清洗毛巾供应辊和清洗毛巾回收辊之间，用于通过向所述清洗用基板的上表面方向对所述清洗毛巾进行加压，使所述清洗毛巾与所述清洗用基板上表面相接触；清洗液喷射部，设置于所述加压滚筒的前方，用于对所述清洗毛巾喷射清洗液；往复驱动部，用于在前后方向上往复驱动所述清洗液清洗部。

另外，优选地，本发明的所述清洗液是异丙醇(IPA:Iso Propyl Alcohol)。

另外，优选地，本发明的所述加压滚筒由具有伸缩性的发泡硅材质构成。

另外，优选地，本发明的所述等离子清洗部是常压氩等离子喷射装置。

发明效果