[发明专利]一种新型的单银LOW-E镀膜玻璃

说明书

技术领域：

本发明涉及一种新型的单银LOW-E镀膜玻璃。

背景技术：

LOW-E玻璃，是一种高端的低辐射玻璃，是在玻璃基材表面镀制包括银层在内的多层金属及其它化合物组成的膜系产品。但现有LOW-E玻璃，其膜层粘结力较差，机械强度不佳，容易出现脱膜、氧化等质量缺陷。同时，Ag层上下表面之间均使用NiCr膜层作为阻挡层，容易掉渣，无法保护Ag层，使得LOW-E玻璃的保存期最长才为6个月。

故有必要对现有的LOW-E玻璃作出改进，以提供一种具有较好粘结性、较佳机械强度、且可延长保存期的LOW-E镀膜玻璃。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种新型的单银LOW-E镀膜玻璃，其具有较好的粘结性和较佳机械强度，且可延长保存期。

一种新型的单银LOW-E镀膜玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材的上表面由下而上依次设有Si_xN_y基膜层、第一TiO_x膜层、第一AZO阻挡层、Ag层、NiCr阻挡层、第二AZO阻挡层、第二TiO_x膜层、以及Si_xN_y顶膜层。

本发明可通过如下方案进行改进：

所述Si_xN_y基膜层、以及Si_xN_y顶膜层的厚度为20～35nm。

所述第一TiO_x膜层的厚度为15～25nm，第二TiO_x膜层的厚度为25～35nm。

所述第一AZO阻挡层的厚度为8～15nm，第二AZO阻挡层的厚度为15～30nm。

所述Ag层的厚度为4～8nm。

所述NiCr阻挡层的厚度为1～5nm。

所述Si_xN_y基膜层、所述Si_xN_y顶膜层为Si₃N₄保护层。

本发明具有如下优点：1、利用Si_xN_y作为基膜层和顶膜层，使膜层具有较好的粘结性和较佳机械强度；同时，利用TiO_x提高玻璃的透光率，Ag层下面用第一AZO阻挡层，Ag层上面用NiCr阻挡层和第二AZO阻挡层，AZO阻挡层具有附着力较强，不容易掉渣的性能，可以使Ag层得到更好的保护，可将LOW-E玻璃的保存期延长至7-8个月。2、本玻璃的透过率≥50％，辐射率≤0.10，反射率≤15，遮阳系数SC≤0.43；本玻璃颜色显现浅蓝色，通过色度仪可以测得如下颜色坐标值：a*＝-2～-3，b*＝-6～-7，光学性能良好。

附图说明：

图1为本发明结构剖视图。

具体实施方式：

如图所示，一种新型的单银LOW-E镀膜玻璃，包括玻璃基材1，所述玻璃基材1的上表面由下而上依次设有Si_xN_y基膜层2、第一TiO_x膜层3、第一AZO阻挡层4、Ag层5、NiCr阻挡层6、第二AZO阻挡层7、第二TiO_x膜层8、以及Si_xN_y顶膜层9。

进一步地，所述Si_xN_y基膜层2的厚度为20～35nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源、氩气作为溅射气体、氮气作反应气体溅射硅铝靶(硅铝质量百分比92:8)制备而成，其中，氩氮比为(400SCCM～420SCCM)：(450SCCM～500SCCM)，氩氮比是该膜层的核心，决定了成膜的质量。

再进一步地，所述第一TiO_x膜层3的厚度为15～25nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源、以氩气为溅射气体、氧气作反应气体射陶瓷钛靶制备而成，其中，氩氧比为(400SCCM～420SCCM)：(50SCCM～60SCCM)，氩氧比是该膜层的核心。

更进一步地，所述第一AZO阻挡层4的厚度为8～15nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用中频交流电源溅射陶瓷Zn(AZO)靶、用氩气作为溅射气体、掺入少量氧气制备而成，其中，氩氧比为：(400SCCM～420SCCM):(20～40SCCM)。为Ag层5作铺垫，降低辐射率。