[发明专利]脱硫除臭系统在审

专利信息
申请号: 201410593329.3 申请日: 2014-10-29
公开(公告)号: CN104324595A 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 罗伦远;赵西北;唐世兵;刘胤强 申请(专利权)人: 重庆庆龙精细锶盐化工有限公司
主分类号: B01D53/78 分类号: B01D53/78;B01D53/52;B01D53/50;C01B17/22
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 402550 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 脱硫 除臭 系统
【说明书】:

技术领域

本发明属于化工生产技术领域,特别是一种脱硫除臭系统。

背景技术

化工厂在产品的生产过程中会发生碳化反应,经碳化反应生成硫化氢气体,硫化氢气体直接排放到空气中,会造成环境污染。硫化氢是无色、剧毒、酸性气体。即使是低浓度的硫化氢,也会损伤人的嗅觉,用鼻子作为检测这种气体的手段是致命的。因此怎么处理排出的大量二氧化硫气体成为一个亟待解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种结构简单的脱硫除臭系统,它能对二氧化硫气体进行吸收,并将其再利用,进而转化成工业原料。

本发明的目的是通过这样的技术方案实现的,它包括脱硫塔、进气管、氢氧化钠溶液储存罐、储存柜和碳酸钠过滤片,所述进气管经脱硫塔下部通入脱硫塔,并且所述进气管口朝脱硫塔顶部设置,所述氢氧化钠溶液储存罐的出口依次设置有阀门和泵,并经管道通入脱硫塔顶部,所述储存柜经管道通入脱硫塔底部,所述碳酸钠过滤片横向设置在进气管口下方的脱硫塔内。

硫化氢气体通过进气管进入到脱硫塔内,同时打开阀门和泵。由于硫化氢气体的质量大于空气,硫化氢气体进入脱硫塔后向下沉降。氢氧化钠溶液经泵从脱硫塔顶部进入脱硫塔内,再与进入到脱硫塔内的硫化氢气体反应生成水和硫化钠。横向设置在脱硫塔内的碳酸钠过滤片能过滤掉二氧化硫气体,而硫化钠则可以通过碳酸钠过滤片,通过碳酸钠过滤片的硫化钠再经管道进入到储存柜内储存,再作为工业原料利用。

进一步,所述进气管上设置有引风机。

进一步,所述脱硫塔顶部设置有排气管。

由于采用了上述技术方案,本发明具有结构简单的优点,它能对二氧化硫气体进行吸收,并将其再利用,进而转化成工业原料。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图中,1、脱硫塔;2、进气管;3、氢氧化钠溶液储存罐;4、储存柜;5、碳酸钠过滤片;6、阀门;7、泵;8、引风机;9、排气管。

具体实施方式

为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。

如图1所示,本发明包括脱硫塔1、进气管2、氢氧化钠溶液储存罐3、储存柜4和碳酸钠过滤片5,所述进气管2经脱硫塔1下部通入脱硫塔1,并且所述进气管口朝脱硫塔1顶部设置,所述氢氧化钠溶液储存罐3的出口依次设置有阀门6和泵7,并经管道通入脱硫塔1顶部,所述储存柜4经管道通入脱硫塔1底部,所述碳酸钠过滤片5横向设置在进气管口下方的脱硫塔1内。

硫化氢气体通过进气管2进入到脱硫塔1内,同时打开阀门6和泵7。由于硫化氢气体的质量大于空气,硫化氢气体进入脱硫塔1后向下沉降。氢氧化钠溶液经泵从脱硫塔1顶部进入脱硫塔1内,再与进入到脱硫塔1内的硫化氢气体反应生成水和硫化钠。横向设置在脱硫塔1内的碳酸钠过滤片5能过滤掉二氧化硫气体,而硫化钠则可以通过碳酸钠过滤片5,通过碳酸钠过滤片5的硫化钠再经管道进入到储存柜4内储存,再作为工业原料利用。

如图1所示,所述进气管2上设置有引风机8。硫化氢气体通过进气管2进入到脱硫塔1内,由于硫化氢气体的质量大于空气,硫化氢气体进入脱硫塔1后向下沉降。氢氧化钠溶液经泵7从脱硫塔1顶部进入脱硫塔1内,与硫化氢气体反应生成水和硫化钠。横向设置在脱硫塔1内的碳酸钠过滤片5能过滤掉二氧化硫气体,而硫化钠则可以通过碳酸钠过滤片5。当氢氧化钠溶液从脱硫塔1顶部进入脱硫塔1内与硫化氢气体反应生成水和硫化钠时,会有多余的氢氧化钠溶液直接通过碳酸钠过滤片5而没有与硫化氢气体发生反应,造成了浪费。设置在进气管2上的引风机8能将硫化氢气体送到脱硫塔1顶部,与从脱硫塔1顶部进入脱硫塔1内的氢氧化钠溶液充分反应,减少浪费。

如图1所示,所述脱硫塔1顶部设置有排气管9。引风机8将硫化氢气体送到脱硫塔1顶部,与从脱硫塔1顶部进入脱硫塔1内的氢氧化钠溶液充分反应,而被引风机8送去脱硫塔1内的硫化氢气体会越来越多,脱硫塔1内的压力会越来越大,会对硫化氢气体和氢氧化钠溶液进入到脱硫塔1内的流畅性产生不良影响。设置在脱硫塔1顶部的排气管9能缓解脱硫塔1内的压力,保证硫化氢气体和氢氧化钠溶液进入到脱硫塔1内的流畅性,保证硫化氢气体与氢氧化钠溶液正常反应。

以上仅为本发明的实施方式,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构,直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理在本发明的专利保护范围之内。

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