[发明专利]一种金属表面的强化沸腾微结构及其制备方法

权利要求书

1.一种金属表面的强化沸腾微结构，其特征在于：包括金属薄片(7)，金属薄片(7)的其中一个面为阵列分布的微结构面，另一个面为光滑平面；

所述微结构尺寸为50nm-50um。

2.根据权利要求1所述的金属表面的强化沸腾微结构，其特征在于：所述微结构面为阵列分布的凹或者凸的圆锥体。

3.根据权利要求1所述的金属表面的强化沸腾微结构，其特征在于：所述微结构面为阵列分布的凹或者凸的圆柱体。

4.根据权利要求1所述的金属表面的强化沸腾微结构，其特征在于：所述微结构面为阵列分布的凹或者凸的矩形或者三角形结构。

5.权利要求1至4中任一项所述金属表面的强化沸腾微结构的制备方法，其特征在于如下步骤：

(1)以表面具有阵列分布凸起结构的薄片作为初始模板(1)，对有机高分子薄膜板(2)的平面进行压印，压印温度为60℃-150℃℃，同时对初始模板(1)和有机高分子薄膜板(2)进行加热固化，待有机高分子薄膜板(2)脱模后，该初始模板(1)的凸起结构转印至有机高分子薄膜板(2)的表面，得到具有与初始模板(1)凸起结构相应的凹陷结构的有机高分子薄膜板(3)，完成第一次转印；

(2)将第一次转印获得的表面凹陷结构的有机高分子薄膜板(3)，作为表面具有凹陷结构的新模板(4)，置于旋涂机上，通过旋涂的方式获得与初始模板(1)相同的凸起结构的有机高分子薄膜板(5)，完成第二次转印；

第一次转印的完成的新模板(4)与第二次转印完成的有机高分子薄膜板(5)的组分材料不同，目的是防止新模板(4)与有机高分子薄膜板(5)发生粘连，影响脱模；

在旋涂机上旋涂方法为：旋涂机旋涂参数设置转速为500-2000r/s，旋涂时间为30s-200s，点胶量为0.5-2mL，在60℃-150℃的温度下固化30min；完成第一次旋涂；

(3)重复步骤(2)中旋涂方法2-5次，以增加薄膜的厚度；其中，最后一次旋涂是在前一次旋涂完成，并置于80℃-120℃恒温环境中5-20min后进行；其中，最后1次旋涂完成后，在60℃-150℃条件下固化30min；薄膜固化后，进行脱模操作，获得具有初始模板(1)凸起结构的有机高分子薄膜复制板8；

(4)将步骤(3)中所获得的有机高分子薄膜复制板(8)置于恒温平台(9)上，平台温度为150℃-300℃，把熔点为150℃-300℃的金属加热至熔融状态后，均匀灌注、平铺在有机高分子薄膜复制板(8)凸起结构的表面，形成金属溶液层(6)，金属溶液依靠自身重力作用，渗入到各凸起之间的空隙中，在金属溶液层(6)上表面施加压力，使其形成平整表面；

(5)待金属溶液层(6)冷却固化后，清除有机高分子薄膜复制板(8)，即获得具有强化沸腾微结构的金属薄片(7)。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于：所述初始模板(1)的基体为蓝宝石片或硅片。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于：步骤(5)清除有机高分子薄膜复制板(8)具体是，将其泡入有机溶剂或者酸性溶液内，使有机高分子薄膜复制板(8)分解，经超声波清洗处理。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于：金属薄片(7)厚度为0.1mm-20mm。