[发明专利]一种抗静电涂料合成方法在审

专利信息
申请号: 201410579727.X 申请日: 2014-10-26
公开(公告)号: CN104356784A 公开(公告)日: 2015-02-18
发明(设计)人: 吴礼才 申请(专利权)人: 大足县众科管道设备有限公司
主分类号: C09D127/12 分类号: C09D127/12;C09D7/12;C09D5/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 402368 重庆*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 一种 抗静电 涂料 合成 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种涂料的合成技术,尤其涉及一种抗静电涂料合成方法。

背景技术

抗静电涂料是指体积电阻率在106—109Ω·cm之间,可使静电荷瞬间消散的涂料。目前,抗静电涂料的制备大多是根据对漆膜导电性能的要求,加入相应的导电粉体。常用的导电粉体有金属系、碳系、复合导电系材料和金属氧化物系等同。制备性能良好的抗静电涂料,往往要求添加的导电粉体兼具导电性好、粒径小、颜色浅、热稳定性和耐候性优良等特点,而现有的导电材料大多都难以同时满足上述条件。另外,如果导电粉体的粒径尺寸达到纳米级,单位体积内的粒子数更多,粒子间的接触机率增大,更容易在漆膜中形成导电网络,同时,纳米材料的加入有助于改善漆膜的细腻度,提高漆膜的耐候、耐磨等性能。因此,探索一种高效制备兼具上述优点导电纳米材料的方法,具有重要的理论价值与实际意义。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种方法简单,成本低、易控制,合成的抗静电涂料不仅具有优异的抗静电性能,而且大大增强了涂料抗紫外线能力的合成方法。

本发明解决上述技术问题的技术方案如下:一种抗静电涂料合成方法,包括如下步骤:

将助剂、混合溶剂加入到氟碳树脂中,用小型分散机搅拌;

将ZAO纳米粉体加入到上述混合体系中,用小型分散机搅拌均匀;

过滤除杂,加入适量固化剂,得到抗静电涂料。

在上述技术方案的基础上,本发明还可以做如下改进。

进一步,所述将助剂、溶剂、混合溶剂加入到氟碳树脂中,用小型分散机搅拌步骤的具体实现如下:

将1~2%的助剂、10~12%的混合溶剂加入到25~30%的氟碳树脂中,用小型分散机以1000~1200rev的速度搅拌5~10min。

进一步,所述将将ZAO纳米粉体加入到上述混合体系中,用小型分散机搅拌均匀步骤的具体实现如下:

采用超声-模板法,通过模板与超声波的协同作用,合成分散性良好的浅色纳米ZAO粉体;

将51~56%的ZAO纳米粉体加入到上述混合体系中,用小型分散机以1100~1300rev的速度搅拌10~15min。

进一步,所述过滤除杂,加入适量固化剂,得到抗静电涂料步骤的具体实现如下:

采用100~200目的筛网进行过滤除杂,加入10~12%的固化剂,得到抗静电涂料。

本发明的有益效果是:方法简单,成本低、易控制,合成的抗静电涂料不仅具有优异的抗静电性能,而且大大增强了涂料抗紫外线能力。

具体实施方式

以下结合实例对本发明的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本发明,并非用于限定本发明的范围。

一种抗静电涂料合成方法,包括如下步骤:

将助剂、混合溶剂加入到氟碳树脂中,用小型分散机搅拌;

将ZAO纳米粉体加入到上述混合体系中,用小型分散机搅拌均匀;

过滤除杂,加入适量固化剂,得到抗静电涂料。

实施例1:

将1%的助剂、10%的混合溶剂加入到25%的氟碳树脂中,用小型分散机以1000rev的速度搅拌5min;采用超声-模板法,通过模板与超声波的协同作用,合成分散性良好的浅色纳米ZAO粉体;将51%的ZAO纳米粉体加入到上述混合体系中,用小型分散机以1100rev的速度搅拌10min;采用100目的筛网进行过滤除杂,加入10~12%的固化剂,得到抗静电涂料。

实施例2:

将1.5%的助剂、11%的混合溶剂加入到28%的氟碳树脂中,用小型分散机以1100rev的速度搅拌8min;采用超声-模板法,通过模板与超声波的协同作用,合成分散性良好的浅色纳米ZAO粉体;将55%的ZAO纳米粉体加入到上述混合体系中,用小型分散机以1200rev的速度搅拌12min;采用150目的筛网进行过滤除杂,加入10~12%的固化剂,得到抗静电涂料。

实施例3:

将2%的助剂、12%的混合溶剂加入到30%的氟碳树脂中,用小型分散机以1200rev的速度搅拌10min;采用超声-模板法,通过模板与超声波的协同作用,合成分散性良好的浅色纳米ZAO粉体;将56%的ZAO纳米粉体加入到上述混合体系中,用小型分散机以1300rev的速度搅拌15min;采用200目的筛网进行过滤除杂,加入12%的固化剂,得到抗静电涂料。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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