[发明专利]一种用于桌面STEPPER光刻机的投影物镜有效

专利信息
申请号: 201410543114.0 申请日: 2014-10-14
公开(公告)号: CN104238092A 公开(公告)日: 2014-12-24
发明(设计)人: 刘俊伯;程依光;赵立新;胡松 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G02B13/22 分类号: G02B13/22;G03F7/20
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 成金玉;李新华
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 桌面 stepper 光刻 投影 物镜
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种用于桌面STEPPER光刻机的投影物镜,属于微纳加工设备中的光学系统设计领域。

背景技术

根据摩尔定律,集成电路的集成度每三年就会在原有基础上增加2倍,器件的特征尺寸因此缩小到原值的目前,摩尔定律依然有效,很大程度上归功于光刻设备的进步。但光刻机设备性能在不断向前突破的同时,其体积也进一步增大。目前大型高精度光刻机系统市场被荷兰ASML、日本NIKON和Canon三家厂商垄断。

但实验室级的小型化光刻系统需要在保证光刻效果的同时兼顾成本和设备体积。设计制造一款可以用于实验室成像高质量桌面级别的STEPPER光刻机,其核心是设计一种。

中国专利201010585454.1公布了一种用于365nm波长的投影光刻物镜,其采用了18片镜片,各类像差都矫正得较好。但该镜头全采用国外OHARA厂商生产的材料,成本较高。

日本专利JP2006266738A公布了一种应用于i线的光刻投影物镜,其工艺因子可以控制在0.4以下。其光学系统由27枚镜片组成,其中有一个14阶非球面。该物镜成像质量优异,成为现阶段国内外大型光刻物镜的设计原型。该物镜成像质量虽然出众,但造价不菲且体积庞大,故并不适用于实验室级光刻设备。

国内目前在投影光刻物镜设计、加工、装配等方面落后国外较多。由于工艺的限制,国内光刻投影物镜的工艺因子一般限制在0.7~0.8左右。与此同时,为了达到提高分辨力的目的,国内同等分辨力光刻投影物镜的数值孔径设计值比国外高。这就大大增加了物镜的设计难度。特别是桌面STEPPER光刻机这类对各分系统体积有较大限制的光刻设备,高性能的投影物镜设计进一步受到限制。总之,要用较少的镜片在较大视场范围内矫正各类像差并降低加工装配难度是目前桌面STEPPER这类小型化光刻机亟需突破的难题。

发明内容

为了解决上述提到的问题,使小型化的桌面STEPPER光刻机本发明设计了一种大视场高数值孔径的i-line光刻机投影物镜,镜片数较少,可以有效地校正各类像差,达到较高的成像质量。

本发明采用的技术方案为:一种用于桌面STEPPER光刻机的投影物镜,其特征是该光刻投影物镜物象共轭距L=500mm;

从入射方向开始到光阑前,为第一透镜组,依次设置L1~L7共7枚镜片,其中第2枚即镜片L2、第6枚即镜片L6为负透镜,其余镜片均为正透镜;

从光阑开始到像面前,为第二透镜组,依次设置L8~L14共7枚镜片,其中第9枚即镜片L9、第13枚即镜片L13为负透镜,其余镜片均为正透镜;

第一透镜组与第二透镜组镜片类型关于光阑成镜像对称,构成双远心结构,物方、像方远心度均控制在±0.5度以内。

进一步的,其工作波长为i线,即365nm。

进一步的,其物方工作距、像方工作距均为60mm。

进一步的,该双远心结构式光刻投影物镜在物面、像面有一定偏离的情况下,依然保证镜头有良好的成像质量以及相同的放大倍率;该双远心结构式光刻投影物镜平衡了透过率和镜片片数之间的关系,透过率估算可以达到40%以上,而14枚镜片的应用能够有效矫正多种像差,尤其是边缘视场的畸变和场曲。

进一步的,该双远心结构式光刻投影物镜的放大倍率M=-1×。

进一步的,其物方有效视场为75mm×75mm,物方数值孔径为NA=0.055;

同时,根据瑞利公式k代表光刻工艺因子,NA为物镜数值孔径,其中工艺因子取0.7,该物镜的分辨率理论上能达到<5μm。

进一步的,其镜片材料牌号分别为H-K9L、H-QK3L以及F2的玻璃。

本发明与现有技术相比的优点在于:

(1)、该光刻物镜的数值孔径较高,可以有效提高光刻分辨力;

(2)、该光刻物镜的总片数较少,且未采用非球面,可以在有效平衡像差的同时,降低加工装配的难度;

(3)、该光刻物镜的光学共轭距较短,可以很好地集成入小型化光刻设备之中。

附图说明

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