[发明专利]曝光装置用的GUI装置、曝光系统及曝光条件设定方法

说明书

技术领域

本发明涉及在对形成有光致抗蚀剂膜的基板曝光出布线图案等的曝光装置中使用的图形用户界面(Graphical User Interface)装置(GUI装置)。

背景技术

以往，通过对半导体基板、印刷电路布线基板、玻璃基板等各种基板照射经过掩膜的光，来形成图案。近年来，为了要形成各种图案，利用将被空间调制的光直接照射在基板上来描绘图案由此进行曝光处理的技术，而不使用掩膜。

上述那样进行曝光处理的曝光装置被称为直接描绘装置，例如在专利文献1中记载有应用于直接描绘装置的GUI装置。该GUI装置在以基板上所设定的多个区块为单位设定描绘参数等曝光条件等时使用。该区块是矩形，在基板上沿着行方向以及列方向排列配置。换言之，多个区块呈矩阵状配置在基板上。

以区块为单位进行曝光处理的曝光装置不限于上述直接描绘装置，例如，在利用对形成在掩膜(中间掩模：reticule)上的图案进行缩小投影的分级器(stepper)(缩小投影型曝光装置)时，也以区块为单位进行曝光处理。

专利文献1：JP特开2013-77718号公报(例如第0054段、图3)

要形成在圆形基板上的光致抗蚀剂膜通常采用所谓的旋涂法(旋转式涂敷方法)来形成，所述旋涂法是指，在向基板的中心供给光致抗蚀剂液之后，使基板围绕其中心高速旋转，借助离心力使光致抗蚀剂液涂敷扩散在基板的表面上的方法。采用该旋涂法形成在基板上的光致抗蚀剂膜的膜厚有时会在基板的径向上发生变动，例如从基板的中心越向周边越厚等。对于这样存在膜厚变动的光致抗蚀剂膜来说，在以同一曝光条件分别对多个区块进行曝光处理时，会产生如下的问题。即，例如在光致抗蚀剂膜的膜厚厚的区块，曝光处理后进行显影处理所获得的抗蚀图案的宽度尺寸比希望尺寸细或粗。

为了解决上述问题，以在显影后的抗蚀图案的宽度尺寸比希望尺寸细时使抗蚀图案的宽度尺寸变粗，在比希望尺寸粗时使抗蚀图案的宽度尺寸变细的方式，利用GUI装置，以区块为单位，改变与变细、变粗有关的曝光条件。在改变该曝光条件时，为了应对光致抗蚀剂膜在基板的径向上的膜厚变动，需要以与圆形的基板外形呈同心圆状的方式选择多个区块。

另外，有时对基板的周围所配置的区块曝光出与用于制造半导体芯片的标准图案不同的图案，例如测试图案等。此时，例如需要选择在圆形的基板的外周缘上设定的多个区块(以与基板外形呈同心圆状的方式配置的多个区块)，将所选择的区块的曝光条件改变为测试图案用的曝光条件。

作为GUI装置，例如已知操作者拖动鼠标指针来将矩形区域显示在操作画面上的装置。在该装置中，选择在操作画面上显示的多个区块中的上述矩形区域所包括的至少一个区块，来作为曝光条件的变更对象。但是，在使用该装置选择以与基板外形呈同心圆状的方式配置的多个区块时，存在以下的问题，即，不能通过一次选择动作选择希望的区块，需要分多次动作来选择，从而操作性差。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供能够操作性良好地选择呈矩阵状配置在圆形基板上的区块，且能够设定曝光条件的曝光装置用的GUI装置、曝光系统以及曝光条件设定方法。

技术方案1的第一发明涉及曝光装置用的GUI装置，该曝光装置以区块为单位，对形成在圆形的基板的表面上的光致抗蚀剂膜实施曝光处理，其特征在于，具有：显示部，其具有画面，操作部，其对显示部的画面进行操作，显示控制部，其对显示部的画面显示进行控制；显示控制部具有：初始画面显示部，其在显示部的画面上显示具有选择显示区域和选择输入区域的初始画面，所述选择显示区域包括基板外形以及对基板内进行划分而形成的多个区块，所述选择输入区域用于输入与选择圆相关的选择信息；选择圆显示部，其基于所述选择信息，以与基板外形呈同心圆状的方式，将选择圆显示在显示部的画面上；选择区块显示部，其将基于所述选择信息选择的选择区块突出显示在显示部的画面上；曝光条件输入显示部，其将曝光条件输入区域显示在显示部的画面上，所述曝光条件输入区域用于输入对选择区块实施曝光处理时的曝光条件。

技术方案2的第二发明，在第一发明中，作为与选择圆相关的选择信息，选择输入区域具有：用于输入与选择圆的大小相关的信息的输入区域；用于输入与选择圆的内侧或外侧相关的信息的输入区域。

技术方案3的第三发明，在第二发明中，作为与选择圆相关的选择信息，选择输入区域具有用于输入与距选择圆的选择宽度相关的信息的输入区域。