[发明专利]用于薄膜嵌段共聚物取向控制的酸酐共聚物面涂层

权利要求书

1.一种方法，包括：

a.提供具有表面的基底、表面中和层、嵌段共聚物和面涂层，

b.在产生第一层的条件下，用所述表面中和层处理所述基底表面；

c.在所述表面上产生包括嵌段共聚物膜的第二层的条件下，用嵌段共聚物涂覆所述表面中和层，以及

d.用面涂层涂覆所述嵌段共聚物，从而在所述表面上产生第三层，其中，仅通过热退火所述第三层能够使嵌段共聚物微区垂直于膜平面取向，其中将面涂层溶解于液体中，该液体包含水、醇和有机溶剂中的任意两种或更多种的混合物。

2.根据权利要求1的方法，其中在没有面涂层存在下的热退火不产生垂直特征。

3.根据权利要求1的方法，其中步骤d)的面涂层是在不会损害、溶解或基本上不溶胀嵌段共聚物的溶剂或溶剂混合物中。

4.根据权利要求1的方法，其中步骤d)的面涂层是在与面涂层反应的溶剂中。

5.根据权利要求1的方法，其中步骤d)的面涂层是在溶剂混合物中，该溶剂混合物包含与面涂层反应的组分。

6.根据权利要求1的方法，其中将面涂层溶解于包含水、醇和有机溶剂中的至少一种的液体中。

7.根据权利要求1的方法，其中该液体还包含碱。

8.根据权利要求1的方法，其中该液体是碱。

9.根据权利要求7的方法，其中所述碱是胺。

10.根据权利要求9的方法，其中所述胺选自由烷基胺、脂肪族胺和连接于任何官能团组合的胺构成的组。

11.根据权利要求9的方法，其中所述胺是盐。

12.根据权利要求11的方法，其中所述盐具有选自由铵阳离子、烷基铵阳离子和脂肪族铵阳离子构成的组中的阳离子。

13.根据权利要求11的方法，其中该盐含有阳离子的组合。

14.根据权利要求11的方法，其中所述盐含有阴离子。

15.根据权利要求14的方法，其中所述阴离子是氢氧根阴离子。

16.根据权利要求7的方法，其中所述碱包含氢氧化铵。

17.根据权利要求7的方法，其中所述碱包含烷基氢氧化铵。

18.根据权利要求7的方法，其中所述碱包含三甲胺。

19.根据权利要求7的方法，其中所述碱包含盐和胺的混合物。

20.根据权利要求4的方法，其中将反应的面涂层再分离。

21.根据权利要求6的方法，其中将溶解的面涂层再分离。

22.根据权利要求21的方法，其中将该再分离的面涂层再次用在根据权利要求1的方法中。

23.根据权利要求21的方法，其中通过一种或多种选自沉淀、蒸发和蒸馏的技术再分离该面涂层。

24.根据权利要求1的方法，还包括步骤d)之后的热退火。