[发明专利]一种玻璃减薄蚀刻液添加剂

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃减薄工艺，具体说是一种玻璃减薄蚀刻液添加剂。

背景技术

在电子显示设备如TFT-LCD领域，玻璃基板仍然是唯一大规模商业化的制作相应电子元器件的载体。随着电子显示设备朝着轻薄化方向的发展，显示玻璃屏的厚度已从1996年的1.1毫米降至0.5毫米以下。手机等便携式设备中应用的玻璃厚度更下降至0.3毫米以下。超薄化的玻璃由于制造困难而且昂贵，并在后续应用处理工序中易破碎，所以对玻璃减薄处理，即利用氢氟酸为主要成分的玻璃减薄蚀刻液对组装好的模组进行薄化处理，仍是目前主流的处理方式。

常见的玻璃减薄蚀刻液的基本配方为：15～30％HF、10～20％H₂SO₄、3～10％HNO₃、3～10％H₃PO₄。其中，真正起反应作用的是氢氟酸，硝酸和硫酸只是增强体系氢离子浓度，提高蚀刻效率，使反应充分，同时溶解金属氟化物沉淀，从而使处理的玻璃表面光滑度得到保证。磷酸起到保护玻璃表面的作用。蚀刻过程是氢氟酸与玻璃主要成分SiO₂进行反应，反应过程如下：

SiO₂+4HF→SiF₄+2H₂O；

3SiF₄+3H₂O→H₂SiO₃+2H₂SiF₆。

因此，玻璃减薄刻蚀液在使用过程中HF含量会不断降低，而其他组分只是少量减少(减薄的玻璃残渣上会带有少量的夹带液)，最后得到的废酸液中基本就只剩下部分硝酸、硫酸、磷酸。这样的废酸液处理起来非常麻烦，通常要送到专门的处理站进行处理，处理成本很高，导致生产成本居高不下，而且还会给环境带来巨大的污染和浪费资源。

发明内容

为了克服上述现有技术的缺陷，本发明所要解决的技术问题是提供一种能够重复利用玻璃减薄蚀刻液使用后得到的废酸液的玻璃减薄蚀刻液添加剂。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种玻璃减薄蚀刻液添加剂，包括以下质量百分比的组分：

HF：35～45％、H₂SO₄：1～5％、HNO₃：1～5％、H₃PO₄：1～5％。

本发明的有益效果在于：

通过向玻璃减薄蚀刻液使用后得到的废酸液中添加本发明的添加剂，可以使废酸液重新恢复到使用前的玻璃减薄蚀刻液的组分浓度状态或者调整到可以满足玻璃减薄刻蚀液使用要求的状态，从而使废酸液得以循环重复利用，省去了排液的操作步骤，减少或免除最终的废液处理过程，显著延长蚀刻液的使用寿命，大大降低了生产成本，减少了对环境的巨大污染，使资源能够重复利用，对提高企业经济效益和社会效益都具有十分重要的意义。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式详予说明。

本发明最关键的构思在于：根据玻璃减薄蚀刻液在使用前后的组分浓度变化，设计一种具有适当组分浓度的添加剂，该添加剂与废酸液混合后可以补充反应过程中所损耗的组分，使废酸液重新恢复到使用前的玻璃减薄蚀刻液的组分浓度状态或者调整到可以满足玻璃减薄刻蚀液使用要求的状态，从而使废酸液能够循环重复利用，减少或避免废酸液的后续排液或处理带来的成本上升、环境污染和资源浪费问题。

具体的，本发明提供的玻璃减薄蚀刻液添加剂，包括以下质量百分比的组分：

HF：35～45％、H₂SO₄：1～5％、HNO₃：1～5％、H₃PO₄：1～5％。

经实验证明，将上述添加剂加入到玻璃减薄蚀刻液使用后得到的废酸液中后，所得溶液的组分及浓度与最初的玻璃减薄蚀刻液的组分及浓度基本一致，完全可以满足玻璃减薄刻蚀液的使用要求。

从上述描述可知，本发明的有益效果在于：