[发明专利]铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层及其制备方法

权利要求书

1.铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层，其特征在于铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层是铝合金通过微弧氧化制备而成表面能大于73.1mJ/m²，极性分子量大于60.0mJ/m²，单位面积油污残余量A≤0.05×10^-4g·cm²的铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层。

2.根据权利要求1所述的铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层，其特征在于所述的铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层厚度为10μm～80μm。

3.如权利要求1所述的铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，其特征在于铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层的制备方法是按照以下步骤进行的：

以铝合金工件为阳极，以电解槽的不锈钢板为阴极，将铝合金工件阳极浸没于工作液中，然后在阴极和阳极两侧施加双极性脉冲电，并在正向电压为350V～650V、反向电压为20V～120V，电流密度为0.5A/dm²～20A/dm²，频率为200Hz～2000Hz，占空比为10％～40％及温度低于80℃的条件下，处理3min～60min，即得到铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层。

4.根据权利要求3所述的铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，其特征在于所述的工作液的pH值为8～14。

5.根据权利要求3所述的铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，其特征在于所述的工作液由三氧化二铝、二氧化硅、氧化铁、四氧化三铁、碳化硅、碳化硼和碳化钛中的一种或者几种混合物及水和无机盐组成；或所述的工作液由三氧化二铝、二氧化硅、氧化铁、四氧化三铁、碳化硅、碳化硼和碳化钛中的一种或者几种混合物及水和碱组成；或所述的工作液由三氧化二铝、二氧化硅、氧化铁、四氧化三铁、碳化硅、碳化硼和碳化钛中的一种或者几种混合物及水和有机醇组成；或所述的工作液由三氧化二铝、二氧化硅、氧化铁、四氧化三铁、碳化硅、碳化硼和碳化钛中的一种或者几种混合物及水、有机醇和无机盐组成；或所述的工作液由三氧化二铝、二氧化硅、氧化铁、四氧化三铁、碳化硅、碳化硼和碳化钛中的一种或者几种混合物及水、有机醇和碱组成；或所述的工作液由三氧化二铝、二氧化硅、氧化铁、四氧化三铁、碳化硅、碳化硼和碳化钛中的一种或者几种混合物及水、碱和无机盐组成；或所述的工作液由三氧化二铝、二氧化硅、氧化铁、四氧化三铁、碳化硅、碳化硼和碳化钛中的一种或者几种混合物及水、有机醇、碱和无机盐组成。

6.根据权利要求5所述的铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，其特征在于所述的水为去离子水。

7.根据权利要求5所述的铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，其特征在于所述的无机盐为硅酸盐、磷酸盐、硼酸盐、钛酸盐、高铁酸盐、钨酸盐、钼酸盐、氟酸盐和铝酸盐中的一种或者几种的混合物。

8.根据权利要求5所述的铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，其特征在于所述的有机醇为甲醇、乙醇、乙二醇、丙三醇、异丙醇和丁醇中的一种或者几种的混合物。

9.根据权利要求5所述的铝合金表面易洁性微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，其特征在于所述的碱为氢氧化钾、氢氧化钠、氢氧化钙、氢氧化锂和氢氧化钡中的一种或者几种的混合物。