[发明专利]高纯铟生产中除铊和镉的方法无效
申请号: | 201410326045.8 | 申请日: | 2014-07-10 |
公开(公告)号: | CN104046802A | 公开(公告)日: | 2014-09-17 |
发明(设计)人: | 洪涛;梁义;梁勉;罗桂军;黄旻;万水明;林勇;梁超;覃华雪;梁励;谢春旭;何峰 | 申请(专利权)人: | 广西德邦科技有限公司 |
主分类号: | C22B58/00 | 分类号: | C22B58/00;C22B9/10 |
代理公司: | 广州市红荔专利代理有限公司 44214 | 代理人: | 李珊 |
地址: | 545002 广西壮族自*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高纯 生产 方法 | ||
技术领域
本发明涉及铟生产除杂技术领域,具体是一种高纯铟生产中除铊和镉的方法。
背景技术
铟是一种应用较为广泛的稀有金属,主要用在半导体、电子器件、透明导电涂层、荧光材料、金属有机物等领域。铟的应用领域多以高纯度的铟作为原料,而铟没有独立的铟矿,主要是从冶金和化工的副产品中提取和提纯,因而杂质元素较多,包括铋、镉、铁、铅、锡、铊等。目前,除杂制取精铟的主要方式是电解法,由于镉和铊电位和铟相差较近,不能在电解过程中有效的去除,传统方式采用甘油-碘化钾-碘法除镉配合甘油-氯化铵-氯化锌法除铊,此方法是先除镉再除铊,缺点是需要多次除镉,物料消耗量较多,除杂的成本增高,除杂效果较差。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种减少物料消耗用量,降低除杂成本,除杂效果较好的高纯铟生产中除铊和镉的方法。
本发明所采用的技术方案是:提供一种高纯铟生产中除铊和镉的方法,包括以下步骤:
A)将析出铟、氯化铵、氯化锌和甘油放入锅中熔炼,温度控制在280℃~320℃,熔炼时间0.5h~1.5h,搅拌30~40 min,取样检测,反复操作,直至铊含量≤0.0001%为止,其中氯化铵和氯化锌的质量比为1~5:1;
B)将碘化钾、碘、甘油和步骤A)所得的铟放入锅中熔炼,温度控制在在180℃~200℃,搅拌30~50min,直至熔渣出现玫瑰红,将渣扒出,取样,检测,直至镉含量≤0.00005%,其中碘化钾与铟的质量比≥0.005。
作为一种优选,本发明高纯铟生产中除铊和镉的方法包括以下步骤:
A)将析出铟、氯化铵、氯化锌和甘油放入锅中熔炼,温度控制在280℃~320℃,熔炼时间0.5h~1h,搅拌30~40 min,取样检测,反复操作,直至铊含量≤0.0001%为止,其中析出铟、氯化铵、氯化锌和甘油质量比为1 : 0.024 :0.006 : 0.024;
B)将碘化钾、碘、甘油和步骤A)所得的铟放入锅中熔炼,温度控制在在180℃~200℃,搅拌30~50min,直至熔渣出现玫瑰红,将渣扒出,取样,检测,直至镉含量≤0.00005%,其中碘化钾、碘、甘油和铟的质量比为 0.005:0.0003:0.015:1。
本发明高纯铟生产中除铊和镉的方法与传统除杂工艺不同,先除铊后除镉,在A)步骤通过氯化物的作用,实现除铊目的的同时,又可以将大部分的镉去除,在析出铟含镉较少时,通过步骤A)即可使含铊和含镉量达到要求,无需进行步骤B),在析出铟含镉较多时,由于步骤A)已大部去除镉,因而下一步骤中所使用的物料用量大大减少,经核算比传统方法减少70%的碘化钾和碘的用量,按目前市场上的价格,碘化钾300元/500g,碘250元/250g,减少70%,即减少了碘化钾210元/500g,碘175元/250g,成本大大降低,传统工艺经过除杂后,铊含量为0.001%,镉含量0.000045%,经本发明除杂后,铊含量为0.0001%,镉含量0.000035%。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明做进一步详细的说明。
本发明高纯铟生产中除铊和镉的方法,包括以下步骤:
A)将析出铟、氯化铵、氯化锌和甘油放入锅中熔炼,温度控制在280℃~320℃,熔炼时间0.5h~1.5h,搅拌30~40 min,取样检测,反复操作,直至铊含量≤0.0001%为止,其中氯化铵和氯化锌的质量比为1~5:1;
B)将碘化钾、碘、甘油和步骤A)所得的铟放入锅中熔炼,温度控制在在180℃~200℃,搅拌30~50min,直至熔渣出现玫瑰红,将渣扒出,取样,检测,直至镉含量≤0.00005%,其中碘化钾与铟的质量比≥0.005。
实施例:
A)将析出铟、氯化铵、氯化锌和甘油放入锅中熔炼,温度控制在280℃~320℃,熔炼时间0.5h~1h,搅拌30~40 min,取样检测,反复操作,直至铊含量≤0.0001%为止,其中析出铟、氯化铵、氯化锌和甘油质量比为1 : 0.024 :0.006 : 0.024,主要反应式:
2Tl + 2NH4Cl + 4ZnCl2 = 2TlZn2Cl5 + 2NH3 + H2
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