[发明专利]一种在超细磨料表面涂覆氧化硅的方法

权利要求书

1.一种在超细磨料表面涂覆氧化硅的方法，其特征在于：包括如下步骤：

(1)将超细磨料加入到乙醇和蒸馏水的混合液中，经超声分散形成均匀稳定的悬浮液，其中乙醇和蒸馏水的质量比为40～60:40～60；

(2)将上述悬浮液加入到正硅酸乙酯和乙醇的混合液中，搅拌均匀获得前驱液；

(3)将上述前驱液于50～60℃的温度下进行恒温水解25～60小时后，即在超细磨料表面形成富含羟基的氧化硅壳层；

上述正硅酸乙酯、乙醇和蒸馏水的质量比为10～20:55～75:5～35，所述超细磨料在上述三种液体的混合液中的浓度为0.1～10wt％。

2.如权利要求1所述的一种在超细磨料表面涂覆氧化硅的方法，其特征在于：所述正硅酸乙酯、乙醇和蒸馏水的质量比为10～20％:55～75％:5～35％。

3.如权利要求1所述的一种在超细磨料表面涂覆氧化硅的方法，其特征在于：所述恒温水解的时间为28～40小时。

4.如权利要求1所述的一种在超细磨料表面涂覆氧化硅的方法，其特征在于：所述的超细磨料为金刚石、碳化硅、碳化硼和氮化硼中的一种。

5.如权利要求1所述的一种在超细磨料表面涂覆氧化硅的方法，其特征在于：所述超细磨料的粒径在50nm～40μm。

6.如权利要求1所述的一种在超细磨料表面涂覆氧化硅的方法，其特征在于：所述富含羟基的氧化硅壳层中氧化硅的结构为水合物、非晶态或晶态。

7.如权利要求1所述的一种在超细磨料表面涂覆氧化硅的方法，其特征在于：所述步骤(1)的超声分散的频率为40kHz，功率100W，处理时间为5分钟。

8.如权利要求1至7中任一权利要求所述的一种在超细磨料表面涂覆氧化硅的方法，其特征在于：还包括步骤(4)：将步骤(3)所制得的表面具有富含羟基的氧化硅壳层的超细磨料经蒸馏水离心清洗3-5次，再进行风干。