[发明专利]一种石制或玻璃工艺制品的抛光方法及装置有效

专利信息
申请号: 201410307965.5 申请日: 2014-07-01
公开(公告)号: CN105290958B 公开(公告)日: 2018-01-19
发明(设计)人: 李坤学 申请(专利权)人: 惠水县昶达数控有限公司
主分类号: B24B39/00 分类号: B24B39/00
代理公司: 贵阳中新专利商标事务所52100 代理人: 刘楠
地址: 550601 贵州省黔南*** 国省代码: 贵州;52
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摘要:
搜索关键词: 一种 玻璃 工艺制品 抛光 方法 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种石制或玻璃工艺制品的抛光方法及装置,属于机电控制技术领域。

背景技术

随着社会的发展,人们的生活水平越来越高,对石制或玻璃工艺制品的需求量也越来越大,这大大促进了该行业的发展,然目前的石制或玻璃工艺制品的表面质量的抛光方法却不能满足现阶段的需求,传统的抛光方法主要采用人工,然对工人的要求非常高,且不能实现工业化,目前机械加工却不能实现对其精确控制加工,使得加工的产品抛光精度不高,有时甚至损害工业品,,目前在对石制或玻璃工艺制品的抛光主要采用人工和部分机械加工,因此目前的技术方案很不理想。

发明内容

本发明的目的在于,提供一种控制简单,操作方便,能自动实现多等级抛光的石制或玻璃工艺制品的抛光方法及装置,以解决目前传统抛光方法中通用性不好,抛光质量较差的的问题,从而克服现有技术的不足。

本发明的技术方案:

一种多面体石制或玻璃工艺制品的抛光方法,该方法是通过光电检测器检测到的触发信号传入主控制系统,与主控制系统中已输入参数组合运算,其中主控制系统对压力调节系统输出指令,压力调节系统根据输出指令对多面体石制或玻璃工艺制品表面施加对应的抛光压力。

前述的多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装方法中,所述压力调节系统所采用的方法是通过其内部的偏心装置偏转角度的大小来调节弹簧的压缩量,而弹簧压缩量量与抛光压力成正比,从而实现对抛光压力的控制。

前述的多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装方法中,所述多面体石制或玻璃工艺制品为钻石、宝石,人造宝石和玻璃制品。

根据上述方法构成的多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置,包括主控制系统、光电检测装置、纵向位移控制系统和机头,其中设有滑块和压力控制装置。

前述的多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置中,压力控制装置由连接块、卡架、光滑轴杆、弹簧、挡块、偏心轮和压力电机构成,其中连接块与滑块连接,卡架与连接块固定为一整体,光滑轴杆横穿过卡架,弹簧与挡块设在卡架内并套在光滑轴杆上,偏心轮设在挡块下方,压力电机与偏心轮连接。

前述的多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置中,滑块由纵向位移控制系统控制,机头内框套在滑块凸起中,并滑块和压力控制装置通过导轨连接但不相互固定。

前述的多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置中,所述压力电机驱动在加工工程中是以加速度曲线为S曲线驱动。

与现有技术相比,本发明适用在对多面体石制或玻璃工艺制品进行精确抛光,通过本发明,一可免去人工抛光工序,真正实现工业化,;二是通过压力控制系统能实现对抛光压力的精确控制,从而保证各石制或玻璃工艺制品的抛光精度,又不会损害原产品的形状;三是该方法及装置原理简单,节约成本。

附图说明

图1是本发明多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置的结构示

意图1;

图2是本发明多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置的结构示

意图2;

图3是本发明多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置中压力控制系统的主视图;

图4是本发明多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置中压力控制系统的后视图;

图5是本发明多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置中机头与滑块的连接方式示意图。

附图中的标记为:1-主控制系统、2-光电检测装置、3-纵向位移控制系统、4-机头、4.1-机头内框、5-滑块、5.1-滑块凸起、6-压力控制装置、6.1-连接块、6.2-卡架、6.3-光滑轴杆、6.4-弹簧、6.5-挡块、6.6-偏心轮、6.7-压力电机、7-导轨、8-抛光盘。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步的详细说明,但不作为对本发明的任何限制。

一种多面体石制或玻璃工艺制品的抛光方法,该方法是过光电检测器检测到的触发信号传入主控制系统,与主控制系统中已输入参数组合运算,再通过主控制系统对压力调节系统输出指令,压力调节系统根据输出指令对多面体石制或玻璃工艺制品表面施加对应的抛光压力。

其中所述压力调节系统所采用的方法是通过其内部的偏心装置偏转角度的大小来调节弹簧的压缩量,而弹簧压缩量量与抛光压力成正比,从而实现对抛光压力的控制,而所述多面体石制或玻璃工艺制品可为钻石、宝石,人造宝石和玻璃制品。

根据上述方法构成的多面体石制或玻璃工艺制品的抛光装置,如图1所示:包括主控制系统1、光电检测装置2、纵向位移控制系统3和机头4,滑块5和压力控制装置6。

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