[发明专利]测量方法、载台装置、及曝光装置

说明书

本申请是申请号为200880025096.X的名称为“测量方法、载台装置、及曝光装置”的发明专利申请的分案申请，原申请的申请日是2008年07月16日。

技术领域

本发明，是关于用以测量进行物体移动的载台等可动构件的位置资讯的测量技术及载台技术、使用该载台技术进行物体的曝光的曝光技术、使用该曝光技术制造半导体元件及液晶显示元件等的元件的元件制造技术。

背景技术

在制造半导体元件或液晶显示元件等的元件(电子元件、微型元件)的微影制程中，主要是使用步进机等的静止曝光型(一次曝光型)的投影曝光装置、以及扫描步进机等的扫描型的投影曝光装置(扫描型曝光装置)等的曝光装置，以将形成于标线片(或光罩等)的电路图案通过投影光学系统投影曝光于涂布有光阻的晶圆(或玻璃板等)上。此种曝光装置，为了减低所制造的电路图案的位置歪斜或重叠误差，以往是使用以频率稳定化激光为光源的激光干涉仪，来作为用以定位或移动晶圆等的载台的位置测量用途。

激光干涉仪中，激光所传递的光路上的气体的折射率，会依存于该器体的温度、压力、湿度等而变动，折射率的变动会导致产生干涉仪的测量值的变动(干涉仪的摇晃)。因此，曝光装置在以往是使用对干涉仪的测量光束的光路吹送经温度控制的气体的送风系统，藉由使该光路的气体的温度稳定化，来减低干涉仪的摇晃情形。最近，为了进一步提高激光干涉仪的测量光束的光路上气体的温度稳定性，也提出了一种使用筒状外罩等覆盖该测量光束的光路的至少一部分的曝光装置(参照例如专利文献1、专利文献2)。

专利文献1：日本特开平5－2883313号公报

专利文献2：日本特开平8－261718号公报

如上所述,在使用激光干涉仪时,有需要施以防止摇晃的对策。然而,特别是扫描型曝光装置的晶圆载台，在测量对象的载台高速地纵横移动时,由于会因载台的移动导致气流不规则地变动，而仍有干涉仪会摇晃某种程度的问题。

本发明的状态，其目的是提供能减低周围气体的折射率变动的影响的测量技术及载台技术、能使用该载台技术提高载台的定位精度等的曝光技术、以及使用该曝光技术的元件制造技术。

发明内容

本发明的第1测量方法，是测量可动构件相对既定构件的位移资讯,其具有：在该既定构件与该可动构件中的一方设置标尺，在另一方设置可检测该标尺的多个检测器的步骤；以线膨胀系数较该可动构件小的支撑构件一体支撑设置于该既定构件的该标尺或该多个检测器的步骤；以及从该多个检测器的检测结果测量该可动构件的位移资讯的步骤。

本发明的第2测量方法,是以多个检测器检测设置于可动构件的标尺,以测量该可动构件的位移资讯，其具有：以支撑构件一体支撑该多个检测器的步骤；以及从该多个检测器的检测结果测量该可动构件的位移资讯的步骤；该支撑构件，是通过前端部可在相对基座构件沿该标尺表面的方向位移的多个挠曲构件，连结于线膨胀系数较该支撑构件大的该基座构件。

本发明的载台装置，可将载台相对既定构件定位，其具备：设置于该载台与该既定构件的一方的标尺；设置于该载台与该既定构件的另一方,用以检测与该标尺位置相关的资讯的多个检测器；一体支撑设置于该既定构件的该标尺或该多个检测器，且线膨胀系数较该载台小的支撑构件；以及从该多个检测器的检测结果求出该载台的位移资讯的控制装置。

本发明的第1曝光装置，是对基板照射曝光用光而在该基板形成既定图案；其具有本发明的载台装置，是藉由该载台装置定位该基板。

本发明的第2光装置，是对可移动的载台所保持的基板照射曝光用光而在该基板形成既定图案，其具备：设置于该载台的标尺；用以检测与该标尺位置相关的资讯的多个检测器；一体支撑该多个检测器的支撑构件；线膨胀系数较该支撑构件大的基座构件；将该支撑构件以可位移于沿该标尺表面的方向的状态连结于该基座构件的连结机构；以及从该多个检测器的检测结果求出该载台的位移资讯的控制装置；该连结机构包含多个挠曲构件，该多个挠曲构件，是连结该支撑构件与该基座构件，且前端部可在沿该标尺表面的方向位移。

又，本发明的元件制造方法，为一种包含微影制程的元件制造方法,其中:是在该微影制程中使用本发明的曝光装置。