[发明专利]激光能量计校准用大功率卤钨灯残余能量辐射效率测量系统及测量方法

权利要求书

1.一种激光能量计校准用大功率卤钨灯残余能量辐射效率测量系统，其特征在于，所述的测量系统含有校准用大功率卤钨灯(3)、卤钨灯固定支架(2)、温控箱(1)、宽光谱型功率计(9)、计算机(11)、电能计(4)、时间继电器(6)、交流接触器(5)、稳压器(7)、功率计信号线(10)、导线(8)；其连接关系为，所述的卤钨灯固定支架(2)设置在温控箱(1)内部底板上，校准用大功率卤钨灯(3)两端通过螺钉固定在卤钨灯固定支架(2)上，温控箱(1)上设置有一个圆孔，圆孔的直径大于校准用大功率卤钨灯(3)的长度；所述的宽光谱型功率计(9)设置在校准用大功率卤钨灯(3)中心的垂线上，宽光谱型功率计(9)与校准用大功率卤钨灯(3)的距离设置为L，并且宽光谱型功率计(9)的光敏面中心、大功率卤钨灯(3)中心、温控箱(1)上的圆孔中心在同一条直线上；所述的校准用大功率卤钨灯(3)通过导线(8)依次与电能计(4)、交流接触器(5)、稳压器(7)电连接；所述的交流接触器(5)的主接点通过导线(8)分别与电能计(4)、稳压器(7)电连接，交流接触器(5)的辅助接点与时间继电器(6)电连接，宽光谱型功率计(9)所测得的功率数据通过功率计信号线(10)与计算机(11)相连接。

2.根据权利要求1所述的激光能量计校准用大功率卤钨灯残余能量辐射效率测量系统，其特征在于，所述的宽光谱型功率计(9)与校准用大功率卤钨灯(3)中心之间的距离L大于校准用大功率卤钨灯(3)尺寸的10倍。

3.一种用于激光能量计校准用大功率卤钨灯残余能量辐射效率测量系统的测量方法，其特征在于依次包括如下步骤：

(a)、将校准用大功率卤钨灯(3)按照校准状态设置到被校激光能量计内部，利用温度计测量出不同通电时长下被校激光能量计内部的环境温度T；

(b)、将校准用大功率卤钨灯(3)水平设置在卤钨灯固定架(2)上，卤钨灯固定支架(2)设置在温控箱(1)内，利用交流接触器(5)控制校准用大功率卤钨灯(3)与稳压器(7)之间的通断，利用时间继电器(6)控制交流接触器(5)的通断，时间继电器(6)的通电时间设置为t₁；

(c)、将宽光谱型功率计(9)设置在距离在校准用大功率卤钨灯(3)中心为L处，测量宽光谱型功率计(3)的光敏面的直径D；

(d)、将温控箱(1)的温度调整到T；

(e)、时间继电器(6)开始工作，利用计算机(11)上的宽光谱型功率计(9)采集软件记录下校准用大功率卤钨灯(3)断电后t₂内功率p_i，利用电能计(4)测量出校准用大功率卤钨灯(3)上消耗的电能E；

(f)、由以下公式计算出通电时间为t₁时校准用大功率卤钨灯(3)在断电t后残余能量辐射效率η_c：

                                         

(g)、调整步骤(f)中的积分时间，从t=0改变至t=t₂就能够获得通电时间为t₁时校准用大功率卤钨灯(3)残余能量辐射效率变化曲线；

(h)、多次通过时间继电器(6)改变校准用大功率卤钨灯(3)的通电时间，重复步骤(d)~ (g)得到校准用大功率卤钨灯(3)的残余能量辐射效率随通电时间变化曲线。

4.根据权利要求3所述的激光能量计校准用大功率卤钨灯残余能量辐射效率测量方法，其特征在于，所述的宽光谱型功率计在卤钨灯(9)断电后测量的时间t₂大于校准用大功率卤钨灯(3)通电时间t₁的2倍。