[发明专利]一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法

权利要求书

1.一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，设置有处理单元，所述处理单元包括离心抛射用抛甩头，用于对进入冷轧机前的冷态金属板带表面进行表面处理，其特征在于，

在所述金属板带上或下方，或上、下方设置离心抛射用抛甩头；

所述离心抛射用抛甩头通过连接其上的给料管，以混合有磨料颗粒的高速混合流体浆料形成射流，对冷态金属板带表面进行均匀、全板宽的连续击打、磨削，从而实现对冷态金属板带的上下宽面—即全板面进行连续、均匀的表面处理；

所述抛甩头旋转轴与金属板带宽度方向呈0～45°夹角设置。

2.如权利要求1所述一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，其特征在于，在所述金属板带上下方成对对应设置离心抛射用抛甩头；

所述离心抛甩头上设置有4～20片离心叶片，离心抛甩头在外部驱动源的作用下带动固定于其上的离心叶片一起以同一角速度旋转，

离心叶片外圆半径大于给料管的最大外径，浆料输送至给料管内部之后，流动至高速旋转的离心叶片上，实现浆料的整体加速的抛甩过程。

3.如权利要求1或2所述一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，其特征在于，所述离心抛甩头上设置有4～8片离心叶片。

4.如权利要求1或2所述一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，其特征在于，所述给料管、抛甩头以及叶片的旋转运动均围绕同一抛甩头旋转轴线，即中心轴线，以同一角速度高速旋转，但旋转方向相反。

5.如权利要求1或2所述一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，其特征在于，所述抛甩头、给料管设置数量2-16个，且其设置数量相同，构成一个处理单元。

6.如权利要求1或2所述一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，其特征在于，

所述射流，在金属板带宽度方向上具有典型的两端射流强度逐步衰减区域和中间射流强度呈现均匀平直区域的强度分布规律；

所述中间射流强度区域为金属板带表面处理的有效射流处理区域。

7.如权利要求6所述一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，其特征在于，所述单个抛甩头衰减区域(P1×2)的宽度在整个射流分布区域宽度(P1×2+P2)上的比值为10-30％。

8.如权利要求5所述一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，其特征在于，所述抛甩头在实现对金属板带宽面进行表面处理作业时，各抛甩头在金属板带的宽度方向上实现错位排布，其具体错位要求为：每个抛甩头的射流强度在板宽方向都有一个映射分布曲线，该曲线呈现“两端衰减-中间平直”的分布规律，且其平直段(P2+P1)的宽度值即为宽度方向上每两个抛头之间的错位量。

9.如权利要求1或2所述一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，其特征在于，

所述浆料的液体介质选自工业用水或具备流动性的油脂类介质，所述液体介质为普通工业水时，温度在100℃以下、PH值在6.5～9，

所述液体介质为油脂类介质时，为具有流动性的液态物质或某几种液体介质或固体溶解于液体介质后形成的混合液态物质。

10.如权利要求1或2所述一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，其特征在于，

所述浆料的固体介质粒径为0.1mm～2.0mm，所述固体介质形状优选球状、柱状、多棱角状颗粒，或二种以上的混合物，所述固体介质选自天然的刚玉类磨料、碳化物磨料、人造类磨料、钢丸、钢砂、钢丝切丸的金属加工丸类，

所述天然的刚玉类磨料选自棕刚玉、白刚玉、单晶刚玉，

所述碳化物磨料选自黑碳化硅、绿碳化硅、碳化硼。

11.如权利要求1或2所述一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，其特征在于，所述金属板带为一鳞皮分布呈现典型不均匀特性的钢种，即，鳞片在金属板带宽度方向上呈现两侧与中间区域的厚度差在5um～10um，或，鳞片在金属板带长度方向的头尾部与中间区域的厚度差在7um～15um。

12.如权利要求1或2所述一种湿法离心抛射研磨料的金属板带表面处理方法，其特征在于，所述方法适用于金属板带板形不良，或因张力波动导致板带在抛射除鳞期间板带板面抖动距离，即“浪高值”超过20mm，但不超过100mm的工况。