[发明专利]一维光子晶体多通道滤波器及其制备方法

权利要求书

1.一维光子晶体多通道滤波器，其特征在于：包括光学基片和镀在光学基片一面的光子晶体膜，所述的光子晶体膜由若干交替铺设的重复单元层构成，每个重复单元层均由依次铺设的第一基础单元（1）和第二基础单元（2）构成，所述的第一基础单元（1）和第二基础单元（2）均依次由一层硫化锌层和一层氟化镁层构成，且第二基础单元（2）中各层的厚度大于第一基础单元（1）中各层的厚度，所述第一基础单元（1）中硫化锌层和氟化镁层的厚度分别为190nm和240nm，第二基础单元（2）中硫化锌层和氟化镁层的厚度分别为261nm和404nm。

2.如权利要求1所述的一维光子晶体多通道滤波器的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤1：加工一个半径为6mm的圆形光学基片，对光学基片双面和立边进行抛光处理；

步骤2：采用酸性清洗液和去离子水分别对光学基片表面进行清洁处理，然后将光学基片放置于热板上进行烘干，热板温度设置为65℃，烘干时间为10分钟；

步骤3：将光学基片放入真空镀膜机中，在光学基片的上表面镀一层硫化锌膜，镀膜厚度为190nm，镀膜后干燥冷却30分钟；然后在光学基片上硫化锌膜的上方镀一层氟化镁膜，镀膜厚度为240nm，镀膜后干燥冷却30分钟；在氟化镁膜上方再镀一层厚度为261nm的硫化锌膜，镀膜后干燥冷却30分钟；然后在硫化锌膜的上方再镀一层厚度为404nm的氟化镁膜，镀膜后干燥冷却30分钟，所镀的两层硫化锌膜和两层氟化镁膜构成一个重复单元层；

步骤4：按照步骤3的方法重复镀膜，直至重复单元层的个数等于所要制备的滤波器的通道个数加1。