[发明专利]一种淋釉机调节装置

权利要求书

1.一种淋釉机调节装置，其特征在于：包括固定腔体（7）、活动腔体（8）、调节部件（10）、设置于固定腔体（7）和活动腔体（8）两侧的挡板（4）、与两侧挡板（4）相连接的调节杆（6）、用来调节调节杆（6）旋转角度的调节部件（10）、固定于所述调节杆（6）上的偏心轴（3）及设置于活动腔体（8）上位置与偏心轴（3）相对应的支撑调节部件（5）；

所述固定腔体（7）和活动腔体（8）为凹口向内的凹腔形结构，所述固定腔体（7）和活动腔体（8）间设有空腔形结构的控釉腔（24），所述固定腔体（7）顶部与活动腔体（8）相接触处为下端相内倾斜的三角形结构，所述固定腔体（7）固定于挡板（4）之间，所述活动腔体（8）上设置有用来与挡板（4）相连接的腔体调节孔（25），所述腔体调节孔（25）为圆形孔状结构，

所述挡板（4）上设置有位置与腔体调节孔（25）相对应的腔体活动杆（18）和与控釉腔（24）相连通的挡板进釉孔（17）；

    所述偏心轴（3）一端设有偏心轴连接杆插孔（20），所述支撑调节部件（5）上设置有两个偏心轴固定板（15），偏心轴固定板（15）上设有位置与所述偏心轴连接杆插孔（20）相对应的支撑调节部件连接杆插孔（22），所述偏心轴（3）与支撑调节部件（5）通过偏心轴连接杆（14）相连接。

2.根据权利要求1所述的淋釉机调节装置，其特征在于：所述支撑调节部件（5）两侧设置有用来与活动腔体（8）相连接的固定部件插孔（21）。

3.根据权利要求1所述的淋釉机调节装置，其特征在于：所述调节部件（10）上设置有调节转盘（11）。

4.根据权利要求1所述的淋釉机调节装置，其特征在于：所述固定腔体（7）和活动腔体（8）底部设置有出釉刀（26），出釉刀（26）底部设有向内凹槽型结构的出釉刀凹口（27）。

5.根据权利要求1所述的淋釉机调节装置，其特征在于：所述固定腔体（7）和活动腔体（8）正下方设置有用来控制出釉方向的导流板（2），所述导流板（2）对称轴上设置有导流槽（33），所述导流槽（33）两侧设置有第一引流槽挡板（29）和第二引流槽挡板（30），所述导流板（2）的两侧外边界处设置有对称的第一导流外挡板（28）和第二导流外挡板（31）；所述第一导流外挡板（28）与第一引流槽挡板（29）间设有凹槽型结构的第一导流外槽（34），所述第二引流槽挡板（30）与第二导流外挡板（31）间设有凹槽型结构的第二导流外槽（32）。

6.根据权利要求1所述的淋釉机调节装置，其特征在于：所述导流板（2）为上底大于下底的梯形结构，所述第一导流外挡板（28）和所述第二导流外挡板（31）高度大于第一引流槽挡板（29）和第二引流槽挡板（30），所述第一引流槽挡板（29）和第二引流槽挡板（30）长度相同且相互平行，所述导流槽（33）横截面宽度小于第二导流外槽（32）和第一导流外槽（34）下端横截面宽度。