[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，在真空腔室内通过等离子束对成膜材料进行加热而使其蒸发，并且使所述成膜材料的蒸发粒子附着于成膜对象物上，其特征在于，具备：

等离子源，在所述真空腔室内生成所述等离子束；

作为主阳极的主炉缸，作为蒸发源的所述成膜材料被填充于该主炉缸，并且该主炉缸向所述成膜材料导入所述等离子束或者被导入所述等离子束；

作为辅助阳极的环炉缸，配置于所述主炉缸的周围，并且引导所述等离子束；及

蒸发方向调整部，以规定时间间隔改变从所述蒸发源蒸发的所述蒸发粒子的方向。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述蒸发方向调整部调整从所述蒸发源蒸发的所述蒸发粒子的扩展宽度。

3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

所述成膜装置具备多组所述等离子源、所述主炉缸及所述环炉缸，

所述蒸发方向调整部周期性地调整所述扩展宽度，使相邻的所述蒸发源中的所述扩展宽度的变化相位错开。

4.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述蒸发方向调整部调整从所述蒸发源蒸发的所述蒸发粒子的扩散中心的方向。

5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，

所述成膜装置具备多组所述等离子源、所述主炉缸及所述环炉缸，

所述蒸发方向调整部周期性地改变所述扩散中心的方向，使相邻的所述蒸发源中的所述扩散中心的方向的变化相位相同。

6.根据权利要求4或5所述的成膜装置，其特征在于，

所述蒸发方向调整部具有叠置在所述环炉缸的磁铁上的辅助线圈，

通过改变由所述辅助线圈形成的磁场来改变所述扩散中心的方向。

7.根据权利要求6所述的成膜装置，其特征在于，

所述辅助线圈具备：一对内侧线圈，从所述环炉缸的轴线方向观察时隔着所述蒸发源配置于两侧；及一对外侧线圈，配置于所述一对内侧线圈的外侧，

将由所述一对内侧线圈形成的磁场的方向和由所述一对外侧线圈形成的磁场的方向设为相反方向。