[发明专利]一种嵌入式等离子体吸附催化处理VOCs的反应器及方法

权利要求书

1.一种嵌入式等离子体吸附催化处理VOCs的反应器，其特征在于，包括：

卧式吸附催化固定床，该卧式吸附催化固定床顶部为进气侧，底部带出料口，两端为出气口，内部填充吸附催化剂；

规则布置的若干个等离子体反应装置，每个等离子体反应器沿竖直向嵌入所述卧式吸附催化固定床内，底端封闭且与所述卧式吸附催化固定床底壁固定，顶端开放为进气口，并伸出吸附催化固定床顶部；

进气装置，位于所述卧式吸附催化固定床的上方，与所有等离子体反应装置的进气口连通。

2.根据权利要求1所述嵌入式等离子体吸附催化处理VOCs的反应器，其特征在于，所述等离子体反应装置为线筒式结构，包括：

内电极，该内电极为芒刺结构，接正高压；

外电极，该外电极为圆筒式不锈钢网，套设在所述内电极外，接地。

3.根据权利要求2所述嵌入式等离子体吸附催化处理VOCs的反应器，其特征在于，所述内电极的芒刺为椭圆形芒刺，该椭圆形芒刺的高度为1～2mm，内电极的直径为5～10mm。

4.根据权利要求2所述嵌入式等离子体吸附催化处理VOCs的反应器，其特征在于，所述外电极的筒壁厚度为3～5mm，孔径为100～150μm。

5.根据权利要求2所述嵌入式等离子体吸附催化处理VOCs的反应器，其特征在于，所述内电极与外电极之间的放电间隙为150～200mm。

6.根据权利要求5所述嵌入式等离子体吸附催化处理VOCs的反应器，其特征在于，相邻两个等离子体反应装置之间的间隙为放电间隙的2～3倍。

7.根据权利要求1所述嵌入式等离子体吸附催化处理VOCs的反应器，其特征在于，所述进气装置为倾斜式进气罩，该倾斜式进气罩的截面积沿进气方向逐渐减小。

8.根据权利要求7所述嵌入式等离子体吸附催化处理VOCs的反应器，其特征在于，所述倾斜式进气罩的顶面与所述卧式吸附催化固定床的顶面之间的夹角为30～40°，倾斜式进气罩的进气方向与等离子体反应装置的进气方向相垂直。

9.根据权利要求1所述嵌入式等离子体吸附催化处理VOCs的反应器，其特征在于，所有等离子体反应装置在吸附催化固定床内呈矩阵分布。

10.一种利用如权利要求1～8任一所述装置处理VOCs的方法，其特征在于，包括：

含VOCs废气由进气装置均匀进入各等离子体反应装置，在放电气隙内发生等离子体氧化反应；之后经过外电极的过滤网进入到吸附催化床，完成进一步的吸附催化氧化作用，将VOCs彻底氧化成CO₂和H₂O，最后净化后的废气由吸附催化固定床的某一端出气口排出。