[发明专利]聚酰亚胺膜

说明书

【技术领域】

本发明涉及一种聚酰亚胺膜，尤其是关于一种具有低光泽度的聚酰亚胺膜。

【背景技术】

可呈现漫反射消光效果的高分子薄膜通称为“消光膜”，膜表面通常具有低光泽度及高雾度，反射光弱而柔和。消光膜的优点包括手感舒适、外观典雅，可应用于电子产品、光学镜头模块、LCD模块、广告广告牌、包装材料等范畴。

聚酰亚胺消光膜已被广泛应用于各种产品上，例如光学镜头模块的软性电路板，然而，光学镜头模块对于软性电路板表面的消光特性有着极严苛的要求。

为了降低聚酰亚胺膜的光泽度，已有报导在聚酰亚胺薄膜中添加消光剂来提高薄膜表面的粗糙度，以散射入射光线的方案。习知消光剂的材料可分为无机化合物与有机化合物。无机化合物包括氧化硅、氧化铝、碳酸钙、硫酸钡、二氧化钛等，但由于无机粒子具有较高的介电常数，可能会提高聚酰亚胺膜的介电常数，从而降低薄膜的绝缘性，不利于后续应用。有机化合物包括聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、环氧树脂等，然而，在聚酰亚胺膜制程中，化学转化温度通常须超过250℃，但该有机化合物皆无法承受250℃或更高的温度，若作为消光剂添加于聚酰亚胺膜中，会造成薄膜的缺陷，例如出现裂纹或孔洞，或因熔融不均而产生颜色不一致的斑块。

因此，对于兼具良好薄膜特性与消光要求的聚酰亚胺薄膜，仍有其需求。

【发明内容】

一种聚酰亚胺膜，包括：构成该膜主结构的聚酰亚胺高分子聚合物；以及分布于该膜中的聚酰亚胺粉体，该聚酰亚胺粉体占该膜总重的15wt％至30wt％，并具有3tm至8tm的平均粒径。在聚酰亚胺膜中添加具有特定粒径及特定比例的聚酰亚胺粉体作为消光剂，可有效降低所得聚酰亚胺膜的光泽度，提高雾度，并维持良好的薄膜特性，例如机械强度。

该聚酰亚胺高分子聚合物由二胺化合物(diamine)及二酐化合物(dianhydride)经缩合反应而形成，二胺与二酐的单体的摩尔比例约为实质上相等。可应用于本发明聚酰亚胺膜的聚酰亚胺高分子聚合物并未特别限制，该二胺与二酐的单体成分及种类亦未特别限制。该二胺与二酐成分，可分别为单一种或多种的组合。在一实施例中，该二胺可为二胺基二苯醚(ODA)(例如4,4′-ODA、3,4′-ODA等)、苯二胺(例如对苯二胺(p-PDA)、问苯二胺(MPD))、双(三氟甲基)联苯胺(TFMB)、二胺基二苯砜(DDS)、双[(胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷(BDAF)、双(胺基苯基)-六氟丙烷、四氟-苯二胺、环己烷二胺(CHDA)、环丁烷二胺、四亚甲二胺、己二胺、辛二胺、十二亚甲二胺等。在一实施例中，该二酐可为焦蜜石酸二酐(PMDA)、联苯四羧酸二酐(BPDA)、2,2-双[4-(3，4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐(BPADA)、氧双邻苯二甲酸酐(ODPA)、六氟二酐(6FDA)、二苯砜四羧酸二酐(DSDA)、双酚A型二酐、环丁烷四甲酸二酐、环脂族二酐等。

用于本发明的聚酰亚胺粉体是作为消光剂，可由二胺化合物及二酐化合物反应而形成，该二胺及二酐化合物约为等摩尔比例。在一实施例中，该二胺化合物选自由对苯二胺(PDA)、二胺基二苯醚(ODA)(例如4,4′-ODA、3,4′-ODA等)、2-(4-胺基苯基)-5-胺基苯并咪唑(PBOA)或前述任意的组合；且，该二酐化合物选自由联苯四羧酸二酐(BPDA)、焦蜜石酸二酐(PMDA)、或前述的组合。举例而言，该聚酰亚胺粉体可由ODA／PMDA、ODA／BPDA、PDA／BPDA、或PBOA／PMDA反应所形成。

在本发明中，将作为消光剂的该聚酰亚胺粉体添加至聚酰亚胺膜中，可于该膜表面形成凹凸微结构，或亦可分布于该聚酰亚胺膜内形成光散射结构，藉此散射入射光线，达到降低光泽度及提高雾度的效果。

该聚酰亚胺粉体的平均粒径为约3-8um。在实施例中，该聚酰亚胺粉体的平均粒径可为3、4、5、6、7、或8μm，亦可介于其中任两数值点的范围内。在部分实施例中，该平均粒径为3-5μm。在其它实施例中，该平均粒径为6-8μm。

在本发明中，该聚酰亚胺粉体的添加量为，以聚酰亚胺膜的总重量为基础，约15-30wt％，优选为约20-28wt％。在一实施例中，该聚酰亚胺粉体的比例可为21wt％、22wt％、23wt％、25wt％、26wt％、27wt％，或介于其中任两数值点的范围内。