[发明专利]一种曝光系统

权利要求书

1.一种曝光系统，包括光源和载台，所述光源和所述载台相对设置，所述载台用于放置待曝光膜，所述光源发出的光线能对所述待曝光膜进行曝光，其特征在于，还包括厚度测量单元和光强调节单元，所述厚度测量单元和所述光强调节单元电连接；所述厚度测量单元用于测量不同区域的所述待曝光膜的厚度；所述光强调节单元用于根据不同区域的所述待曝光膜的厚度，对相应区域的所述待曝光膜的曝光光强进行调节。

2.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述厚度测量单元包括测量光源、分光元件、光采集模块和处理模块；所述分光元件与所述载台相对，所述测量光源发出的光线通过所述分光元件照射到所述待曝光膜上；所述分光元件用于将从所述待曝光膜反射回来的光线进行分光并获得反射光谱；所述光采集模块用于采集所述反射光谱，并将所述反射光谱转换为模拟电信号；所述处理模块用于对所述模拟电信号进行处理以获得所述待曝光膜的厚度，并将所述待曝光膜的厚度发送给所述光强调节单元。

3.根据权利要求2所述的曝光系统，其特征在于，所述光强调节单元包括调节模块和转换模块；所述调节模块包括两块对合设置的透明基板以及加注在所述透明基板之间的液晶，还包括用于控制所述液晶发生偏转的控制电路，所述控制电路与所述转换模块电连接；所述转换模块用于接收所述待曝光膜的厚度并将其换算为控制所述液晶偏转的电信号，且将所述电信号发送给所述控制电路；所述控制电路用于通过所述电信号控制所述液晶的偏转；所述透明基板能与所述待曝光膜相对设置，所述调节模块用于通过所述液晶的偏转对所述待曝光膜的曝光光强进行调节。

4.根据权利要求3所述的曝光系统，其特征在于，所述处理模块包括模/数转换子模块和计算子模块，所述模/数转换子模块分别与所述光采集模块和所述计算子模块电连接，所述模/数转换子模块用于将所述模拟电信号转换为数字电信号；所述计算子模块用于根据所述数字电信号计算获得所述待曝光膜的厚度。

5.根据权利要求4所述的曝光系统，其特征在于，所述待曝光膜划分为多个待曝光区，所述厚度测量单元能对对应着不同的所述待曝光区的所述待曝光膜的厚度进行测量，所述光强调节单元能根据不同的所述待曝光区的所述待曝光膜的厚度分别对不同的所述待曝光区的曝光光强进行调节。

6.根据权利要求5所述的曝光系统，其特征在于，所述厚度测量单元还包括坐标识别模块，所述光强调节单元还包括坐标匹配模块，所述坐标匹配模块分别与所述坐标识别模块和所述控制电路电连接；所述坐标识别模块用于识别所述待曝光膜的厚度的测量区域的坐标，并将所述坐标发送给所述坐标匹配模块；所述坐标匹配模块用于接收所述坐标，并将所述坐标与所述待曝光膜的对应区域进行匹配；所述控制电路用于根据坐标匹配结果控制所述待曝光膜相应区域的所述液晶的偏转。

7.根据权利要求6所述的曝光系统，其特征在于，所述曝光系统还包括移动机构，所述移动机构与所述厚度测量单元连接，用于将所述厚度测量单元移动至所述待曝光膜的不同区域，还用于在测量结束后，将所述厚度测量单元移动至所述待曝光膜以外。

8.根据权利要求7所述的曝光系统，其特征在于，所述待曝光膜的不同区域的所述曝光光强与相应区域的所述待曝光膜的厚度成正比。

9.根据权利要求3所述的曝光系统，其特征在于，所述光源和所述载台之间还能设置掩模板，所述掩模板用于在所述待曝光膜上形成不同的图形，所述掩模板设置在所述调节模块的入光侧或出光侧。

10.根据权利要求9所述的曝光系统，其特征在于，所述掩模板贴附于两块所述透明基板中的任意一块上。

11.根据权利要求9-10任意一项所述的曝光系统，其特征在于，还包括透镜组，所述透镜组设置在所述光源和所述载台之间，用于使形成在所述待曝光膜上的图形等倍成像，以使经曝光后的所述待曝光膜上形成与所述掩模板的图案形状和大小相同的图形。

12.根据权利要求11所述的曝光系统，其特征在于，还包括位置控制机构，所述位置控制机构与所述光强调节单元相连，或者，所述位置控制机构与所述载台相连，所述位置控制机构用于控制所述光强调节单元移动，或者，所述位置控制机构用于控制所述载台移动，以使所述光强调节单元相对所述待曝光膜移动以便对所述待曝光膜进行扫描式曝光。