[发明专利]磁控溅射镀膜生产线

权利要求书

1.一种磁控溅射镀膜生产线，适用于对基片进行镀膜加工，其特征在于，包括机座及设于所述机座的传输装置、上料区、真空加工室组、下料区和回传线路，所述上料区、真空加工室组、下料区及回传线路呈环形顺次相连设置且形成连续循环运行的加工环路，所述传输装置呈连续循环运行的设于所述加工环路；所述真空加工室组包含沿传输装置的传输方向顺次相连设置的进料室、前过渡室、前缓冲室、一号镀膜室、二号镀膜室、三号镀膜室、后缓冲室、后过渡室及出料室，所述一号镀膜室、二号镀膜室及三号镀膜室内均设有靶材，所述一号镀膜室、二号镀膜室及三号镀膜室外均设有可移动的且靠近于所对应的所述靶材的磁体及用于调节所述磁体的调节机构，所述调节机构包含移磁调节组件及均磁调节组件，所述移磁调节组件及均磁调节组件均与所述磁体连接，通过所述移磁调节组件驱使所述磁体相对所述靶材沿平行于所述靶材的方向做平移调节操作，通过所述均磁调节组件驱使所述磁体弯曲以调节所述磁体两端与所述靶材的距离；所述基片于所述上料区处装载于所述传输装置，所述传输装置承载所述基片顺次传输于所述进料室、前过渡室、前缓冲室、一号镀膜室、二号镀膜室、三号镀膜室、后缓冲室、后过渡室及出料室以完成基片的镀膜加工，所述基片于所述下料区处从所述传输装置上卸下，所述传输装置经所述回传线路回传至所述上料区。

2.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜生产线，其特征在于，所述调节机构还包含安装架，所述安装架设于所述机座，所述磁体呈移动的设于所述安装架，所述移磁调节组件及均磁调节组件均设于所述磁体及安装架之间。

3.如权利要求2所述的磁控溅射镀膜生产线，其特征在于，所述移磁调节组件包含主动齿轮及从动条形齿，所述主动齿轮枢接于所述安装架，所述从动条形齿沿所述磁体做平移调节的方向安装于所述磁体，且所述主动齿轮与所述从动条形齿啮合配合；每一所述磁体的两端均设有所述均磁调节组件，所述移磁调节组件位于所对应的所述磁体的中部，所述均磁调节组件包含连接座、抵推螺栓及回拉螺栓，所述连接座连接于所述安装架，所述抵推螺栓的一端螺纹连接于所述连接座，所述抵推螺栓的另一端抵触于所述磁体，所述回拉螺栓的一端螺纹连接于所述磁体，所述回拉螺栓的另一端滑动贯穿所述连接座，所述连接座均位于所述磁体与所述回拉螺栓的螺帽之间，且所述连接座抵触于所述回拉螺栓的螺帽；所述移磁调节组件还形成有顶推部，所述顶推部朝靠近所述靶材的方向抵推于所述磁体。

4.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜生产线，其特征在于，所述传输装置包含机架、移动承载架及驱动机构，所述机架设于所述机座，所述移动承载架的底部承载传送于所述驱动机构，所述机架沿所述移动承载架的移动方向设有第一导向部，所述移动承载架设有与所述第一导向部呈间隙配合的第二导向部，所述第一导向部与所述第二导向部相面对的侧部呈磁性相斥而维持所述移动承载架处于竖直状态。

5.如权利要求4所述的磁控溅射镀膜生产线，其特征在于，所述第一导向部包含若干第一磁体及若干第二磁体，所述第一磁体沿所述移动承载架的移动方向呈间隙的排列而形成第一磁体组，所述第二磁体沿所述移动承载架的移动方向呈间隙的排列而形成第二磁体组，所述第一磁体组及第二磁体组沿同一水平位置布置，且所述第一磁体组及第二磁体组之间形成一磁性导向槽，所述第二导向部呈间隙的容置于所述磁性导向槽内；所述第二导向部包含若干第三磁体及若干第四磁体，所述第三磁体沿所述移动承载架的移动方向呈间隙的排列而形成第三磁体组，所述第四磁体沿所述移动承载架的移动方向呈间隙的排列而形成第四磁体组，所述第三磁体组及第四磁体组均位于所述磁性导向槽内，所述第三磁体的一端呈间隙的面对于所述第一磁体的一端且呈磁性相斥，所述第四磁体的一端呈间隙的面对于所述第而磁体的一端且呈磁性相斥。

6.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜生产线，其特征在于，所述前过渡室及所述后过渡室均设有用于抽真空的快速真空机构，所述快速真空机构包括第一阀门、第一连通管道、第二阀门、第二连通管道、罗茨泵及滑阀泵，所述第一阀门连通于所述前过渡室与所述第一连通管道之间或所述后过渡室与所述第一连通管道之间，所述第二阀门连通于所述第一连通管道于第二连通管道之间，所述滑阀泵的进气端连通于所述第二连通管道，所述罗茨泵的进气端连通于所述第一连通管道，所述罗茨泵的出气端连通于第二连通管道。