[发明专利]干扰源确定方法及装置有效

专利信息
申请号: 201410072533.0 申请日: 2014-02-28
公开(公告)号: CN104883699B 公开(公告)日: 2018-05-01
发明(设计)人: 刘海义;杨武涛 申请(专利权)人: 鼎桥通信技术有限公司
主分类号: H04W24/00 分类号: H04W24/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 代理人: 刘芳
地址: 100102 北京市朝*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 干扰 确定 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种干扰源确定方法,其特征在于,包括:

基站在被干扰的基站发送下行同步码Sync_DL的同时,接收所述被干扰的基站发送的下行子帧;

所述基站从接收到的所述下行子帧的基带数据中确定下行导频时隙DwPTS位置;

所述基站检测所述DwPTS位置内的信号是否存在所述Sync_DL,若检测到所述Sync_DL,则所述基站为所述被干扰的基站的干扰源。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基站检测所述DwPTS位置内的信号是否存在所述Sync_DL,包括:

所述基站对所述DwPTS位置内的信号与所述Sync_DL进行相关计算,得到所述基站各天线的相关序列;

所述基站根据所述各天线的相关序列,确定所述各天线的平均功率;

所述基站根据所述各天线的平均功率,确定所述DwPTS位置内的信号与所述Sync_DL的相关功率谱序列的峰值和峰值位置;

若所述基站判断出所述峰值对应的功率与所述峰值前窗的平均功率的差值大于可靠性阈值,且所述峰值对应的功率与所述峰值后窗的平均功率的差值也大于所述可靠性阈值,则判断所述峰值所在的峰值窗的功率是否超过预设门限,其中,所述峰值窗的位置可根据所述峰值位置确定,所述峰值前窗为所述峰值窗的起始位置之前的32个码片构成的窗口,所述峰值后窗为所述峰值窗的结束位置之后的32个码片构成的窗口;

若所述基站判断出所述峰值窗的功率超过预设门限,则认为检测到所述Sync_DL,则所述基站为所述被干扰的基站的干扰源。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述基站对所述被干扰的基站的干扰功率为所述峰值窗的功率。

4.根据权利要求1~3任一项所述的方法,其特征在于,若多个所述基站检测出各自所述DwPTS位置内的信号存在所述Sync_DL时,该些多个所述基站组成所述被干扰的基站的干扰源全集,同时,所述被干扰的基站为各所述基站的干扰基站。

5.一种干扰源确定装置,其特征在于,包括:

接收模块,用于在被干扰的基站发送下行同步码Sync_DL的同时,接收所述被干扰的基站发送的下行子帧;

确定模块,用于从接收到的所述下行子帧的基带数据中确定下行导频时隙DwPTS位置;

检测模块,用于检测所述确定模块确定出的所述DwPTS位置内的信号是否存在所述Sync_DL,若检测到所述Sync_DL,则所述基站为所述被干扰的基站的干扰源。

6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,

所述检测模块,具体用于对所述DwPTS位置内的信号与所述Sync_DL进行相关计算,得到所述基站各天线的相关序列,根据所述各天线的相关序列,确定所述各天线的平均功率,根据所述各天线的平均功率,确定所述DwPTS位置内的信号与所述Sync_DL的相关功率谱序列的峰值和峰值位置,若判断出所述峰值对应的功率与所述峰值前窗的平均功率的差值大于可靠性阈值,且所述峰值对应的功率与所述峰值后窗的平均功率的差值也大于所述可靠性阈值,则判断所述峰值所在的峰值窗的功率是否超过预设门限,其中,所述峰值窗的位置可根据所述峰值位置确定,所述峰值前窗为所述峰值窗的起始位置之前的32个码片构成的窗口,所述峰值后窗为所述峰值窗的结束位置之后的32个码片构成的窗口;若判断出所述峰值窗的功率超过预设门限,则认为检测到所述Sync_DL,则所述基站为所述被干扰的基站的干扰源。

7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述基站对所述被干扰的基站的干扰功率为所述峰值窗的功率。

8.根据权利要求5~7任一项所述的装置,其特征在于,若多个基站的检测模块检测出各自所述DwPTS位置内的信号存在所述Sync_DL时,该些多个所述基站组成所述被干扰的基站的干扰源全集,同时,所述被干扰的基站为各所述基站的干扰基站。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鼎桥通信技术有限公司,未经鼎桥通信技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410072533.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top