[发明专利]玻璃基板的研磨方法及制造方法、以及研磨装置

说明书

技术领域

本发明涉及高精度地研磨玻璃基板的技术。

背景技术

在要求高加工精度的玻璃基板产品（例如磁性记录介质用玻璃基板、光掩模用玻璃基板等）中，谋求利用研磨装置对玻璃基板高精度地进行研磨的技术。作为与利用研磨装置对玻璃基板高精度地进行研磨的技术相关的现有技术文献，例如提出有专利文献1。

【专利文献1】日本特开2004－345018号公报

发明内容

但是，存在利用现有技术无法满足近年来的针对研磨精度的严格的要求基准的情况。本发明的目的在于提供能够获得平行度优异的玻璃基板的玻璃基板的研磨方法及制造方法、以及研磨装置。

为了达成上述目的，本发明提供一种玻璃基板的研磨方法以及具有使用该研磨方法的研磨工序的玻璃基板的制造方法，上述玻璃基板的研磨方法的特征在于，基于使与研磨装置的平板的研磨面抵接的多个玻璃基板的位置变化的马达的电力或者电流的检测值，对上述玻璃基板的研磨条件进行控制，以使得在上述研磨面中研磨速度差变小。

并且，为了达成上述目的，本发明提供一种研磨装置，

该研磨装置具备：

平板，该平板具有研磨面；

保持件，该保持件能够保持要利用上述研磨面进行研磨的多个玻璃基板；

马达，该马达使上述研磨面与上述保持件之间的相对位置变化；以及

控制部，该控制部基于上述马达的电力或者电流的检测值对上述玻璃基板的研磨条件进行控制，以使得在上述研磨面中研磨速度差变小。

另外，研磨速度差与研磨力差意思相同。研磨速度差（研磨力差）是研磨面内的最大研磨速度（研磨力）与最小研磨速度（研磨力）之差。

根据本发明，能够获得平行度优异的玻璃基板。

附图说明

图1是磁性记录介质用玻璃基板的立体图。

图2是磁性记录介质用玻璃基板的剖视立体图。

图3是双面研磨装置的简图。

图4是示出保持磁性记录介质用玻璃基板的保持孔的位置的、保持件的简图。

图5是示意性地示出对玻璃基板的两个主平面同时进行研磨时的双面研磨装置的上平板的研磨面和下平板的研磨面的形状为D1＜D2时的形状的剖视图。

图6是示意性地示出对玻璃基板的两个主平面同时进行研磨时的双面研磨装置的上平板的研磨面和下平板的研磨面的形状为D1＞D2时的形状的剖视图。

图7是示出马达的电力与研磨面形状之间的关系的图表的一例。

图8是双面研磨装置的构成例的框图。

标号说明：

10：磁性记录介质用玻璃基板；20：双面研磨装置；21、22、23、24：马达；25：研磨液供给装置；26：研磨压力调整装置；27：马达状态检测传感器；30：上平板的研磨面；40：下平板的研磨面；50：保持件；60：内周端；70：外周端；90：控制部；101：主平面；102：内周侧面；103：外周侧面；104：内周倒角部；105：外周倒角部；201：上平板；202：下平板；203：太阳轮；204：内齿轮；501：玻璃基板保持孔；501A：内径侧保持孔；501B：中间部保持孔；501C：外径侧保持孔。

具体实施方式

以下对用于实施本发明的实施方式进行说明，但本发明并不限于以下所记载的实施方式。

首先，图1中示出磁性记录介质用玻璃基板10的立体图，图2中示出剖切磁性记录介质用玻璃基板10而得的剖视立体图。在图1和图2中，各标号分别表示磁性记录介质用玻璃基板10的主平面101、内周侧面102、外周侧面103、内周倒角部104、外周倒角部105。在图2中，A1和A6表示磁性记录介质用玻璃基板10的外径侧区域（外周侧面103侧的区域）的板厚。A2和A5表示磁性记录介质用玻璃基板10的中间区域（由外周侧面103侧的区域和内周侧面102侧的区域夹着的区域）的板厚。A3和A4表示磁性记录介质用玻璃基板10的内径侧区域（内周侧面102侧的区域）的板厚。

作为磁性记录介质用玻璃基板的两个主平面的平行度，磁性记录介质用玻璃基板的各区域的板厚（例如A1～A6）越均匀则越好，各区域的板厚越不均匀（板厚偏差大）则越差。

图3是双面研磨装置20的简图。在图3中，10表示磁性记录介质用玻璃基板，30表示上平板的研磨面，40表示下平板的研磨面，50表示保持件，201表示上平板，202表示下平板，203表示太阳轮，204表示内齿轮。