[发明专利]一种双极膜处理湿法冶金废水工艺无效
申请号: | 201410023863.0 | 申请日: | 2014-01-17 |
公开(公告)号: | CN103787523A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 赵林;龙泽彬;陈雪风 | 申请(专利权)人: | 四川顺应金属材料科技有限公司 |
主分类号: | C02F9/02 | 分类号: | C02F9/02;C02F9/06;C02F103/16 |
代理公司: | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人: | 董芙蓉 |
地址: | 620000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 双极膜 处理 湿法 冶金 废水 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及湿法冶金废水回收循环利用技术领域,具体为一种双极膜处理湿法冶金废水工艺。
背景技术
目前部分湿法冶金企业采用的是蒸发的方法,将废水进行蒸发,经水分大量变成水蒸汽后,将废水中的盐分结晶出来。此方法虽然可以解决废水的排放问题,但是蒸发废水需要大量的热量,能耗过高,并且废水无法循环利用。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺点和不足,提供一种双极膜处理湿法冶金废水工艺,将废水中的盐分经过双极膜分解为相应的酸与碱,生成的酸与碱作为生产辅料进入生产系统,从而减少辅料的再次投入使用,从而降低生产用辅料成本。
本发明的一种双极膜处理湿法冶金废水工艺是通过以下技术方案来实现的:
一种双极膜处理湿法冶金废水工艺,其包括以下步骤:
步骤一,将废水进行过滤,滤除机械杂质;
步骤二,将步骤一中所过滤后的废水通过树脂柱,吸附废水中的重金属离子;
步骤三,将步骤二中经过树脂柱的废水溶液,进入双极膜进行盐分的分解;
步骤四,将步骤三中所生成的酸与碱重新返回生产线重新利用;
步骤五,将步骤三中经过分解后的废水送至生产线前段进行重新利用,此时废水中盐分含量小于10g/L。
作为优选,所述双极膜进行盐分分解的方式为电解析。
作为优选,所述酸与碱分别为硫酸和氢氧化钠。
作为优选,所述盐分为硫酸钠。
与现有技术相比,本发明的一种双极膜处理湿法冶金废水工艺的有益效果是:含盐废水经过双极膜处理后,生成产物为酸与碱,将生成的酸与碱重新进行生产系统进行利用,可以明显的节约生产过程中酸碱辅料的用量。另一方面,经双极膜将盐分分解后,废水中的盐分浓度明显降低,从而废水可以重新进行循环利用,而不会因为水中盐分浓度过高出现大量结晶。
具体实施方式
以下通过具体实施方式和配方对本发明进行具体说明,本发明包括,但不限于以下所列实施例。
具体实施例1:
一种双极膜处理湿法冶金废水工艺,其包括以下步骤:
步骤一,将2L废水进行过滤,滤除机械杂质;
步骤二,将步骤一中所过滤后的废水通过树脂柱,吸附废水中的重金属离子;
步骤三,将步骤二中经过树脂柱吸附后的废水溶液,进入双极膜进行盐分的分解;
步骤四,废水中硫酸钠原浓度为60g/L,经步骤三中双极膜电渗析1小时后,硫酸钠浓度降至5.7g/L,生成硫酸浓度为84.3g/L,生成氢氧化钠浓度为60g/L,将生成的硫酸和氢氧化钠重新返回生产线重新利用;
步骤五,将步骤三中经过分解后生成的硫酸可以入生产中进行浸出、调节PH、萃取等工序使用;生成的氢氧化钠可以进入萃取、沉淀等工序使用。处理后的废水中含硫酸钠为5.7g/L,此部分水可以进入浸出工序进行浆化原料,也可进行浸渣的洗涤等工序。
具体实施例2:
一种双极膜处理湿法冶金废水工艺,其包括以下步骤:
步骤一,将2L废水进行过滤,滤除机械杂质;
步骤二,将步骤一中所过滤后的废水通过树脂柱,吸附废水中的重金属离子;
步骤三,将步骤二中经过树脂柱吸附后的废水溶液,进入双极膜进行盐分的分解;
步骤四,废水中硫酸钠原浓度为100g/L,经步骤三中双极膜电渗析1小时后,硫酸钠浓度降至8.5g/L,经电渗析1.5小时后,硫酸钠浓度降至6.6g/L,生成硫酸浓度为130g/L,生成氢氧化钠浓度为98g/L,将生成的硫酸和氢氧化钠重新返回生产线重新利用;
步骤五,将步骤三中经过分解后生成的硫酸可以入生产中进行浸出、调节PH、萃取等工序使用;生成的氢氧化钠可以进入萃取、沉淀等工序使用。处理后的废水中含硫酸钠为5.7g/L,此部分水可以进入浸出工序进行浆化原料,也可进行浸渣的洗涤等工序。
含盐废水经过双极膜处理后,生成产物为酸与碱,在湿法冶金生产过程中,本就需要加入大量的酸与碱,将生成的酸与碱重新进行生产系统进行利用,可以明显的节约生产过程中酸碱辅料的用量。另一方面,经双极膜将盐分分解后,废水中的盐分浓度明显降低,从而废水可以重新进行循环利用,而不会因为水中盐分浓度过高出现大量结晶。
以上所述仅为本发明的两种具体实施例,但本发明的实施例并不局限于此,任何本领域的技术人员在本发明的领域内,所作的变化或修饰皆涵盖在本发明的保护范围之内。
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