[发明专利]粒子射线治疗系统有效
申请号: | 201380079237.7 | 申请日: | 2013-08-29 |
公开(公告)号: | CN105517629B | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 大谷利宏;小田原周平 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 周全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电磁体 粒子射线 垂直偏转 水平偏转 加速器 偏转 平行 中间面 粒子射线照射 圆形加速器 治疗系统 传输部 | ||
1.一种粒子射线治疗系统,
该粒子射线治疗装置具有:加速粒子射线的圆形加速器;对从该圆形加速器射出的粒子射线进行传输的粒子射线传输部;以及用于将由该粒子射线传输部传输而来的粒子射线照射至患者的患部的、且设置于与所述圆形加速器不同的层的粒子射线照射部,其特征在于,
所述粒子射线传输部具有:使在与所述圆形加速器的加速器中间面平行的面内前进的所述粒子射线偏转至与所述圆形加速器的加速器中间面平行的方向的水平偏转电磁体;使被该水平偏转电磁体弯曲了前进方向的所述粒子射线偏转至与平行于所述加速器中间面的方向不同的方向的第一垂直偏转电磁体;以及弯曲前进方向以使得被该第一垂直偏转电磁体弯曲了前进方向的所述粒子射线在与所述加速器中间面平行的方向上前进的第二垂直偏转电磁体,所述水平偏转电磁体设置在与设置有所述粒子射线照射部的层不同的层中。
2.如权利要求1所述的粒子射线治疗系统,其特征在于,
所述粒子射线照射部中,使投影在设置有所述水平偏转电磁体的层中的投影与设置有所述水平偏转电磁体的层的所述粒子射线传输部相重叠。
3.如权利要求1所述的粒子射线治疗系统,其特征在于,
所述粒子射线照射部具有旋转吊架。
4.如权利要求1至3中任一项所述的粒子射线治疗系统,其特征在于,
所述水平偏转电磁体由多个偏转电磁体构成,将所述水平偏转电磁体全部设置在与设置有所述粒子射线照射部的层不同的层中。
5.如权利要求4所述的粒子射线治疗系统,其特征在于,
所述粒子射线照射部设置有多个,由多个所述偏转电磁体构成的水平偏转电磁体中的至少一个偏转电磁体具有使粒子射线分支成2个方向的功能。
6.如权利要求1至3中任一项所述的粒子射线治疗系统,其特征在于,
输入至所述第一垂直偏转电磁体的粒子射线的前进方向与从所述第二垂直偏转电磁体输出的粒子射线的前进方向相反。
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