[发明专利]流体流动控制装置和系统以及使流体从其中流过的方法

权利要求书

1.一种流动控制装置，其包括：

大体上柱形的主体，其沿着纵向轴线延伸且具有侧壁；

至少一个第一通道，其沿着所述侧壁纵向地延伸；和

至少一个第二通道，其沿着所述侧壁纵向地延伸；

其中，所述至少一个第一通道和所述至少一个第二通道中的一者的至少一部分相对于所述纵向轴线以斜角纵向地延伸。

2.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述至少一个第一通道和所述至少一个第二通道至少大体上纵向地从所述柱形主体的第一端部延伸到所述柱形主体的第二端部。

3.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述至少一个第一通道和所述至少一个第二通道交叉。

4.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述柱形主体是第一柱形主体，并且还包括同心地位于所述第一柱形主体的内柱形腔体中的第二柱形主体。

5.如权利要求4所述的流体流动控制装置，还包括一个或多个附加柱形主体，每个同心地位于另一柱形主体的内柱形腔体中。

6.如权利要求4所述的流体流动控制装置，其中，所述第一柱形主体和所述第二柱形主体每个具有弯曲侧壁，使得所述第一柱形主体和所述第二柱形主体形成大体上球形滚珠。

7.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述至少一个第一通道与多个其它通道交叉。

8.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述至少一个第一通道和所述至少一个第二通道在所述侧壁上形成菱形型式。

9.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述至少一个第一通道和所述至少一个第二通道在所述侧壁上形成偏移砖形型式。

10.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述第一通道和所述第二通道中的至少一个具有近似圆形内表面。

11.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述第一通道和所述第二通道中的至少一个具有正方形内表面，其具有与底面大体上正交的两个壁表面。

12.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述第一通道和所述第二通道中的至少一个具有有角度内表面，其包括以一定角度交叉的两个壁表面。

13.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述至少一个第一通道和所述至少一个第二通道被以成腔型式构造以控制通过所述第一通道和所述第二通道的物质的成腔。

14.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述柱形主体被构造为塞子，并且还包括围绕所述塞子定位的座环。

15.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述第一通道和所述第二通道中的至少一个具有相对于侧壁表面的变化深度。

16.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述第一通道和所述第二通道中的至少一个具有沿着纵向轴线的变化宽度。

17.如权利要求1所述的流体流动控制装置，其中，所述至少一个第一通道和所述至少一个第二通道中的至少一个以之字形型式沿着所述侧壁纵向地延伸。

18.如权利要求17所述的流体流动控制装置，其中，所述至少一个第一通道和所述至少一个第二通道不交叉。

19.一种流体流动控制系统，包括：

流体进口；以及

阀，具有相对于所述流体进口定位的流体流动控制装置，使得从所述流体进口通过的流体流过所述流体流动控制装置，所述流体流动控制装置包括：

至少一个大体上柱形主体，其沿着纵向轴线延伸且具有侧壁；

至少一个第一通道，其沿着所述外侧壁纵向地延伸；以及

至少一个第二通道，其沿着所述外侧壁纵向地延伸；

其中，所述第一通道和所述第二通道中的至少一个相对于所述纵向轴线以斜角纵向地延伸。

20.如权利要求19所述的流体流动控制系统，还包括阀体，其包括位于所述流体进口与所述流体出口之间的塞子室，其中，所述至少一个大体上柱形主体被构造为被设置在所述塞子室中的塞子头。