[发明专利]薄膜扩散阻挡层在审
申请号: | 201380068245.1 | 申请日: | 2013-12-30 |
公开(公告)号: | CN104870107A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | J·C·格伦兰;M·A·普廖洛;P·温斯顿;J·J·麦克休 | 申请(专利权)人: | 米其林集团总公司;米其林研究和技术股份有限公司;德克萨斯A&M大学体系 |
主分类号: | B05D5/12 | 分类号: | B05D5/12 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟 |
地址: | 法国克莱*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 扩散 阻挡 | ||
1.一种生产在弹性衬底上含涂层的物质扩散阻挡层的方法,包括:
(A)将所述弹性衬底暴露于阳离子溶液以在所述弹性衬底上生成阳离子层,其中所述阳离子溶液包含聚合物、胶粒、纳米颗粒、盐或其任何组合;并且
(B)将所述阳离子层暴露于阴离子溶液以在所述阳离子层上生成阴离子层,其中所述阴离子溶液包含阴离子聚合物、第二胶粒、第二盐或其任何组合;并且其中所述涂层包括含所述阳离子层和所述阴离子层的双层。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述盐包含离子,包括NH4+、K+、Na+、Li+、Mg2+、Ca2+、Rb+、Cs+、N(CH3)4+或其任何组合。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述第二盐包含离子,包括CO32-、F-、SO42-、H2PO42-、C2H3O2-、Cl-、NO3-、Br-、Cl03-、I-、ClO4-、SCN-、S2O32-或其任何组合。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述阳离子层和/或所述阴离子层包含中性电荷。
5.根据权利要求1所述的方法,还包括:
(C)将所述阴离子层暴露于第二阳离子溶液以在所述阴离子层上生成第二阳离子层,其中所述第二阳离子溶液包含所述聚合物、所述胶粒、所述纳米颗粒、所述盐或其任何组合,并且其中所述涂层包括含所述阳离子层、所述阴离子层和所述第二阳离子层的三层。
6.根据权利要求5所述的方法,还包括:
(D)将所述第二阳离子层暴露于第二阴离子溶液以在所述第二阳离子层上生成第二阴离子层,其中所述第二阴离子溶液包含所述阴离子聚合物、所述第二胶粒、所述第二盐或其任何组合,并且其中所述涂层包括含所述阳离子层、所述阴离子层、所述第二阳离子层和所述第二阴离子层的四层。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述第二阳离子层和/或所述第二阴离子层包含中性电荷。
8.根据权利要求1所述的方法,其中所述弹性衬底包含合成橡胶、天然橡胶或其任何组合。
9.根据权利要求1所述的方法,还包括在所述弹性衬底上沉积底漆层,其中所述底漆层置于所述弹性衬底和所述阳离子层之间。
10.一种生产在弹性衬底上含涂层的物质扩散阻挡层的方法,包括:
(A)将所述弹性衬底暴露于阴离子溶液以在所述弹性衬底上生成阴离子层,其中所述阴离子溶液包含阴离子聚合物、胶粒、盐或其任何组合;并且
(B)将所述阴离子层暴露于阳离子溶液以在所述阴离子层上生成阳离子层,其中所述阳离子溶液包含聚合物、第二胶粒、纳米颗粒、第二盐或其任何组合;并且其中所述涂层包括含所述阳离子层和所述阴离子层的双层。
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